微細加工・研究開発・産業用高出力極短パルスレーザ PHAROS
フェムト秒レーザの高出力化と高エネルギー化を同時に実現し、高繰返し動作、出射方向安定性により高品位、高精度な微細加工が高速で可能
優れたビーム品質、出射方向安定度と低ランニングコストにより微細加工、マイクロマシンニングに最適。 パルス幅・出力可変機能やパルス・オン・デマンド機能を搭載し、レーザ照射条件の変更が容易に行なえるので、アプリケーション開発や機器組込みに最適。またパルス繰返し周波数の高さ、高平均出力を活かし、S/N の向上と測定時間の大幅短縮など、理化学・研究開発分野に貢献できる。 PHAROS（高平均出力20W@1MHz)とORPHEUS(OPA)と波長拡張ユニットを組み合わせて、最大16μmまで波長可変が可能で分光分析等に最適。 また高出力・高エネルギータイプ（20W 4mJ/pulse@3kHz) 、極短パルス幅タイプ(>100fs)も加わり、各種加工、アプリケーション開発や機器組み込みに最適。 レーザダイオード直接励起により、大幅な小型化と低消費電力化を実現した高出力極短パルス（フェムト秒）レーザ。 パルス幅・出力可変機能や、パルス・オン・デマンド機能を搭載し、 レーザ照射条件の変更が容易に行なえる。
- 企業：フォトテクニカ株式会社
- 価格：応相談
