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任意波長に最適化されたレーザー光源の制御向けのキューブ型誘電体無偏光ビームスプリッター
特定の波長や出力で発光するレーザー光源の制御向けのキューブ型無偏光ビームスプリッターとなります。 有効波長帯は広帯域ながら、P，S偏光それぞれの透過特性の差を3%以内に制御しており、 ビームの位置ズレを軽減させる様にビーム偏角（透過偏角）は2分以内での製作が可能です。 所定の波長帯に最適化したARコート (反射防止膜)を施すことで、透過効率を最大化させたり、 黒塗り処理を施すことで不要な反射（迷光）を取り除き、グレアやゴースト対策をすることも可能です。 532nmのダイオードレーザー(半導体レーザー)向け、632.8nmのヘリウム-ネオン(He-Ne) 向け、1064nmのネオジウムヤグ(Nd:YAG) 向けなど、任意の制御波長に合わせた設計が可能です。 加工や測定機器などでのライン照射や位置検出、光学処理など、半導体製造装置や自動光学検査装置などの分野で広く利用されています。
高精度研磨装置の性能を裏付ける高精度、高品質光学研磨製品の加工
映像レンズ、赤外LED光学センサーなどに利用されるボールレンズをはじめとして、ロッドレンズ、プリズム、ビームスプリッター、平行平面板など高精度、高品質な光学研磨製品を取り扱っています。 両面λ/10以上の精度、平行度100nm以内、100μt(5inφ)等の加工が可能です。 高精度研磨装置を開発しているティーエスシーだから出来る高精度、高品質な光学研磨製品です。。
光量を1:1や7:3など、任意の割合に分離させる事が出来るフィルターです
『ハーフミラー/ビームスプリッター』は、光量を1:1や7:3など、 任意の割合に分離させる事が出来るフィルターです。 仕様波長や分離は任意に指定可能です。 当社では、コート(真空蒸着)により、耐久性に 優れた製品をご提供可能です。 【主な硝材】 ■光学硝子全般 ■合成石英 ■光学結晶 ■色ガラス ■樹脂 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
高いダメージ耐性を持つ高出力アプリケーション用偏光ビームスプリッター
高出力用途の、高いダメージ耐性を持つ偏光ビームスプリッターです。 優れた表面品質と高い消光比を特徴とします。 4つの外面すべてに反射防止コーティングが施されています。 ・優れたダメージ閾値 >15 J/cm2 10 ns pulses@1064 nm ・高い消光比 > 1：500 ・優れた表面精度 20-10 scratch & dig (MIL-PRF-13830B)
355nmまたは532nm用に設計された固定比キューブビームスプリッター
固定比キューブビームスプリッターは、内部面にある部分反射面で接合された2つの直角プリズムで構成されています。
標準規格品として全品1個から販売。完全在庫販売のため、短納期で供給致します。
■高レーザー耐力を実現するオプティカルコンタクト法によるデザイン ■p偏光の光の96%以上を透過 ■1000:1を超える高い消光比 ※下記より、こちらの製品が掲載されているエドモンド・オプティクス・ジャパンのカタログがダウンロードできます。
一般的なダイオード、ガス、固体レーザーとの使用に最適。レーザーライン用キューブ型偏光ビームスプリッター。
多くの一般的なレーザー波長用にデザインされたTECHSPEC レーザーライン用キューブ型偏光ビームスプリッターは、ランダム偏光のビームを2つの直線偏光成分に分割。s偏光の光を90°に曲げて反射し、対するp偏光の光を透過します。一対の精密な直角プリズムを接着して一体化しているので、透過波面歪を最小化し、入射ビームと透過出射ビーム間の優れた平行性を実現します。 ■一般的なダイオード、ガス、固体レーザー用にデザイン ■s偏光の光を反射、p偏光の光を透過 ■高消光比 ※下記より、こちらの製品が掲載されているエドモンド・オプティクス・ジャパンのカタログがダウンロードできます。
標準規格品として全品1個から販売。完全在庫販売のため、短納期で供給致します。
■広い入射角度に対して高コントラストを実現 ■広角でも波長シフトが少ない ■コリメートされていない光源との使用に最適 ※下記より、こちらの製品が掲載されているエドモンド・オプティクス・ジャパンのカタログがダウンロードできます。
中心波長550nmで30/70、50/50、70/30の3種類のR/T比をラインナップ。非偏光タイプのビームスプリッター。
TECHSPEC キューブ型ビームスプリッター (非偏光タイプ)は、2個の直角プリズムにより構成されます。一方のプリズムの斜面に、B/Sとして機能するための適当な光学薄膜を蒸着し、2個のプリズムの斜面同士を接合してキューブ型を構成します。この膜は、非偏光入射時に可視域の中心波長における550nmにおいて、透過率、反射率とも所定の比率で光を分岐します。ビームスプリッターとして機能する膜に誘電体多層膜を採用しているため、膜自身による光の吸収ロスは殆どありません (但し誘電体膜による広帯域波長制御の難しさから、可視域の末端側においては異なる分岐比となる場合があります)。また、入出射面の四面全てに可視域用広帯域単層反射防止膜 (MgF2シングル)が施されています 。ゴースト像発生の低減に効果的です。 ■非偏光タイプビームスプリッター ■B/S コーティングに誘電体多層膜を使用 ■3種類のR/T 比をラインナップ ※下記より、こちらの製品が掲載されているエドモンド・オプティクス・ジャパンのカタログがダウンロードできます。
標準規格品として全品1個から販売。完全在庫販売のため、短納期で供給致します。
■低偏光依存性のコーティングを採用 ■高精度の直角プリズムを用いて構成 ■入出射面四面に、透過効率を最大化するBBARコーティングを採用 ■Cマウントバージョンもラインナップ 標準規格品の製品ラインナップとその仕様、販売価格に関しては、エドモンド・オプティクス・ジャパン株式会社の公式サイト内の対象製品ページをご覧ください (上記リンクの製品ホームページよりお入りいただけます)。 ※下記より、こちらの製品が掲載されているエドモンド・オプティクス・ジャパンのカタログがダウンロードできます。
標準規格品として全品1個から販売。完全在庫販売のため、短納期で供給致します。
■高レーザー耐力 ■フェムト秒アプリケーション用に低GDDコーティングを採用 ■卓越した表面品質 ■入射ビームの偏光状態に影響を受けずに分岐 ※下記より、こちらの製品が掲載されているエドモンド・オプティクス・ジャパンのカタログがダウンロードできます。
可視および近赤外域用プレート型ビームスプリッター。デュアル倍率イメージングシステムや低出力レーザーのビーム合成に最適。
デュアル倍率イメージングシステムや低出力レーザーのビーム合成に最適なTECHSPEC VIS & NIR用プレート型ビームスプリッターは、N-BK7ガラスを基板に採用し、研磨加工により板厚を薄くすると共に基板の面精度の高さも両立させています。基板の表面側には所定のR/T分割を実現する誘電体多層膜が施されており、金属膜に比べてエネルギー損失を遥かに少なくすることができます。また同裏面側には不要なゴースト像の発生を抑え、スループットを最大限に改善するマルチARコーティングが施されています。非偏光の45°入射に対してデザインされています。 ■非偏光タイプビームスプリッター ■400~700nmで機能する可視光 (VIS)用タイプと、700~1100nmで機能する近赤外 (NIR)用タイプ ■R/T比別に30/70から70/30まで多数ラインナップ ※下記より、こちらの製品が掲載されているエドモンド・オプティクス・ジャパンのカタログがダウンロードできます。
標準規格品として全品1個から販売。完全在庫販売のため、短納期で供給致します。
■非偏光タイプビームスプリッター ■45°設置時の正面開口が円形 ■50R/50Tデザイン ■可視光 (VIS)用と近赤外 (NIR)用のコーティングオプション ■拡散同軸照明や同軸落射照明用に最適 ※下記より、こちらの製品が掲載されているエドモンド・オプティクス・ジャパンのカタログがダウンロードできます。
標準規格品として全品1個から販売。完全在庫販売のため、短納期で供給致します。
■非偏光タイプビームスプリッター ■複数のR/T比をラインナップ ■基板裏面側に広帯域マルチARコート採用 ■合成石英ガラス基板 ※下記より、こちらの製品が掲載されているエドモンド・オプティクス・ジャパンのカタログがダウンロードできます。
