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シンプルな構造のアルゴンプラズマ装置！小さいサイズのサンプルの改質に
『MyPLシリーズ』は、アルゴンガスを使用した大気圧ダイレクトプラズマ装置です。 前後スライドステージによるシンプルな卓上型ですので、 小さいサイズのサンプルの改質など研究開発・試作用途に適しています。 反りのあるフイルムに対しても、エアー吸着ステージによって固定し、 サンプル表面を処理することが可能です。 【特長】 ■稼動ステージ搭載 ■小さいサイズのサンプル改質に好適 ■改質時間を設定できる ■反りのあるフィルムにも対応 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
スタンドアローンタイプのアルゴンプラズマ装置！量産用途のプラズマ装置です
『ILPシリーズ』は、アルゴンガスを使用したダイレクトプラズマヘッドに コンベア又は前後スライドステージの搬送系を持たせたスタンドアローンタイプの装置です。 PLC制御によりガスON/OFF、プラズマON/OFF、搬送系ON/OFFを自動で 制御しますので枚葉での量産設備としてご使用頂いております。 「ILP-Sシリーズ」は前後スライドステージタイプ、「ILP-Cシリーズ」は コンベアタイプとなっております。 【特長】 ■スタンドアローンタイプ ■アルゴンガス使用 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 ※英語版カタログをダウンロードいただけます。
大気圧プラズマ装置です。 接着、洗浄などに最適です。
窒素、空気をプラズマ原料とします。 プラズマを液晶パネルからプリント基板など へ照射しますと、表面の洗浄から、表面の接着力 が上がります。
データ記録も遠隔監視もおまかせ。 ポータブル×設置型のハイブリッドDO計
データロガー機能、遠隔監視機能を搭載したポータブル型DO計。 連続測定データをアプリで取得、メール転送も可能です。
窒素-酸素の混合ガスをプラズマ化し、基板に吹き付け。瞬時に表面の汚れを除去！
電極間で発生したプラズマを処理対象に吹きつけて表面処理するリモート方式を採用した大気圧プラズマ装置です。 液晶基板の洗浄、プリント基板前処理、樹脂基板塗工前処理等、プリンテッドエレクトロニクス関連材料に利用可能。 ガラスや基板、フィルムの表面を高速に改質、洗浄します。 【特長】 ◆窒素+酸素または窒素+乾燥空気を使用 ◆高速洗浄 ◆低ランニングコスト ◆ダメージフリー ◆メンテナンスフリー ◆大型化対応（～液晶第８世代大判ガラス） ※詳しくはカタログをダウンロード、もしくはお問い合わせください。
フィルムの高速表面改質を窒素雰囲気中で実現。
安価な窒素ガスでも均一放電を実現。フィルムを高速均一処理します。 プラズマ中の活性な粒子が（原子状酸素など）によりフィルムや樹脂の有機分子の結合の一部が切断され、新たな官能基が形成されます。 これにより、表面の接着性や濡れ性を大幅に改善することができます。 【特徴】 ■マルチガステクノロジー 工業ガスメーカーの知見を最大に活かして、あらゆる表面改質に対応。 →フィルムの濡れ性改善、接着性改善 ■高スループット 処理対象を電極の間に挿入するダイレクト方式を採用し、高速連続処理を実現。 ■豊富なバリエーション フッ素系、PET、ポリイミドフィルムなど多種実績あり片面、両面処理可能。フィルム幅は最大2000mm。 ※詳しくはカタログをダウンロード、もしくはお問い合わせください。
大気圧下で表面処理が可能なプラズマ処理装置。樹脂/金属/ガラスなど様々な表面を活性化、接着やコーティングの密着強化に！
弊社の大気圧プラズマ処理装置、Openair-Plasma(R)は、改質力に優れており、様々な表面の改質に導入されています。また、圧縮空気と電気でプラズマを発生することができオゾンレスのため、既存インラインへの導入が容易にできます。 Openair-Plasma(R)装置は表面の洗浄と活性化を同時に施すことができ、溶剤レス＆乾式処理のため、生産プロセスの改善やコストダウンへもつながります。また、プラズマノズルをロボットへの組込し、自動化するなどのカスタマイズが可能で、品質管理・向上にも適しています。 【目次】 ■ プラズマとは ■ プラズマのメカニズムと効果 ■ プラズマトリートシステムの構成 ※詳しくはPDFダウンロード、またはお問い合わせください。
バッテリー効率が向上！LIB生産におけるメリットなどを掲載
当資料は、Openair-Plasmaを使った高品質バッテリー製品の 表面洗浄と活性化について掲載しています。 リチウムイオン電池（LIB）をはじめ、アプリケーションや セル加工におけるメリットなどをご紹介します。 【掲載内容（抜粋）】 ■Openair-Plasmaによる洗浄と活性化 処理が速く、機能的で酸化物フリー ■LIBとは ■アプリケーション ■プロセスエンジニアリング ■LIB生産におけるメリット ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
数百台の実績を誇る汎用性に優れたドライエッチング装置。
● 高い選択比と高精度のエッチングが可能。 ● PLCコントロールによる自動運転およびプロセスパラメータの保存が可能。 ● 試料はφ8インチまで対応可能。 ● 高速排気エッチングが可能。 ● コンパクト設計
還元に、接合に、水が効く。画期的なプラズマ処理装置についてご紹介します
『Aqua Plasma』は、水蒸気(H2O)を用いた新しい処理法です。 酸化した金属の還元、樹脂接合、親水化、有機物の分解を効率的かつ 安全に行うことが可能。 省スペースモデルの「AQ-500」をはじめ、大面積基板対応モデルの 「AQ-2000」や、マガジンモデルである「AQ-100M」などをラインアップ しております。 【ラインアップ】 ■省スペースモデル AQ-500 ■大面積基板対応モデル AQ-2000 ■Φ8″ダブルカセットモデル AQ-200C ■マガジンモデル AQ-100M ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
大気圧プラズマ装置
従来の減圧プラズマに加え、大気圧（常圧）プラズマを産学協同開発。熱非平衡の大気圧グロー放電プラズマのため、低温処理が可能です。
日本発のまったく新しいガスイオン注入も可能なDLCコーティング装置です。
・真空装置部の大型が容易に可能で最大長さ4m、直径1.2mの大型装置の納入実績もあります ・完全自動運転のためコスト低減が可能です ・DLC成膜のほかに簡易なイオン注入も可能で新しい材料の開発も可能です ・自転公転機構やヒーターが必要ないため真空装置内のパーティクルの発生を最小限に抑えることが可能です
ソリューションプラズマの実験が卓上で驚くほど簡単に！
液中プラズマ発生装置は卓上サイズで簡単にソリューションプラズマの実験を行うことが可能です。液中プラズマを発生させ、新しい材料合成や 加工場を作り出せる、新たなプラズマ 応用技術です。ナノ粒子の生成や、カーボンナノチューブへの水溶性の付与など様々な効果が発揮されています。液体からの二次電子やプラズマと液体との連成反応により放電が持続します。また液体中での放電の為、使用する液体の 化学反応性を利用することも可能です。パルスグロー放電なので、低温で処理が可能です。アーク放電に比べ、電極の損傷が大幅に低減できるため、長時間運転を実現しました。 ソリューションプラズマの発生にはパルス電源を使用し、 液体の導電率と電極間距離を調整する事により、極めて少ないエネルギー（数百W）からソリューションンプラズマを発生させることができます。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
硝酸態窒素水溶液を植物の肥料に！液中にてコロナ放電を発生させる技術
株式会社栗田製作所の『液中プラズマ技術』は、従来の真空中・大気中ではなく、液中にてコロナ放電やグロー放電を発生させる技術です。 プラズマより発生する活性種(Hラジカル、OHラジカル)や紫外線等を利用し、気液界面にて対象を高速処理します。 CNTを処理して親水基を表面修飾することにより、水中での分散性を向上できます。 塩化金酸水溶液を処理すると、還元作用により金ナノ粒子が合成できます。 【液中プラズマ技術の内容】 ■CNT分散 ■ナノ粒子合成 ■脱色 ■多チャンネル化の開発 詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
改質Revolution！
・本装置は、大気圧プラズマを用いて、粉体の表面改質を行う装置です。 ・容器内の粉体にグロープラズマを当て、回転揺動による撹拌で均一な処理が可能です。 ・危険な溶媒を用いない､完全なドライプロセスでの処理を可能とし､環境に優しく生産性に優れた装置です｡ ・冷却機構を搭載しており、低融点の粉体にも対応できます。
【デモ機貸し出し可能！】一度に数枚のワークを処理できます
本機はスピン式のスプレー現像装置で、自動および手動運転により、現像、リンス、水洗、乾燥を行います。 一度に数枚のワークを処理できます。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
基板サイズは最大φ12インチ！当社独自ノズルのCO2ラバージェットノズル使用
『CO2スプレー洗浄装置』は、真空環境での洗浄のため低露点環境で CO2洗浄ができます。 当社独自ノズルのCO2ラバージェットノズルを使用。 個体CO2粒子速度と粒子密度の可変ができ、好適な洗浄条件を提案可能です。 マイクロレンズ上のパーティクル除去やスパッタ残渣除去、濡れ性改善に ご利用いただけます。 【特長】 ■当社独自ノズル：CO2ラバージェットノズル使用 ■真空環境での洗浄 ■ダメージレスドライ洗浄が可能 ■基板サイズは最大φ12インチ ■ハンディータイプのスプレーユニット販売可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
「XeF2エッチング装置」「バッチ式アッシング装置」などの実績を保有しています
ジャパンクリエイト株式会社が行なった、『ドライエッチング装置』の オーダーメイド製作実績をご紹介します。 「研究開発用ICPエッチング装置」や「ICPプラズマエッチング装置」 「XeF2エッチング装置」「バッチ式アッシング装置」などの実績を保有。 デモ機にてサンプル処理を実施しております。 ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。 【製作実績】 ■研究開発用ICPエッチング装置 ■ICPプラズマエッチング装置 ■XeF2エッチング装置 ■バッチ式アッシング装置 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
好適な表面処理によるパーティクル低減！ロードロック式による高真空プロセスに対応
『ロードロック式EB蒸着装置』は、基板回転による優れた膜厚分布および 再現性を実現しています。 ロードロック式による高真空プロセスをはじめ、リフトオフプロセスや、 トレイ搬送にも対応。 最高900℃の高温プロセスが可能で、チャンバのメンテナンスが容易です。 ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■最高900℃の高温プロセスが可能 ■基板回転による優れた膜厚分布および再現性を実現 ■ロードロック式による高真空プロセスに対応 ■好適な表面処理によるパーティクル低減 ■チャンバのメンテナンスが容易 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
独自のリアクターヘッドにより大面積エリアに高密度プラズマを発生！
半導体ICパッド部クリーニングからFPC基板、液晶ガラス基板等の大型ワーク（ガラス基板等）の量産インラインシステム構築を容易にし、設備投資とランニングコストの低減を実現！ マニュアルステージ搭載した簡易プラズマユニット機 各種装置へのビルドイン対応可能です
現場でのオイル管理に！その場でオイル汚濁(ゴミ・水分)を瞬時に測定
『Wendy』は、鉱物油系の一般油圧作動油、軸受油、ギヤ油などの、汚染度 (夾雑物と水分を含む汚濁)を、プローブを試料油中に浸して、瞬時に一次判定 する簡易診断ツールです。 光の散乱及び吸収による減衰率を計測する方式を採用しています。 また、軽量(本体200g)でコンパクトな携帯型です。 【特長】 ■その場でオイル汚濁(ゴミ・水分)を瞬時に測定 ■コンパクトな携帯型 ■汚染度の良否判定表示 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
ドイツのワイヤー洗浄装置の専門メーカー。用途や目的に合わせて最適なシステムをご提案いたします。
ゲオ社はドイツのワイヤー洗浄装置の専門メーカーです。 メンテナンスが容易で経済的な「表面拭き取りシステム」をはじめ、 「超音波洗浄システム」や「高圧洗浄システム」などをラインアップ。 ワイヤーの状態や用途、目的に合わせた最適な洗浄システムをご提案することが可能です。ワイヤークリーニングにお困りの場合ぜひお問い合わせください。 【取り扱い製品】 ■表面拭き取りシステム ■筒型超音波洗浄システム ■高圧洗浄システム ■スパイラルブラシ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
【溶剤不要】ハンディータイプの大気圧プラズマ装置、低温・電荷ダメージなし！洗浄・表面改質・親水化・接着強化に高い処理実績！！
洗浄・表面改質・親水化・接着強化に優れた、ハンディータイプの大気圧プラズマ装置の販売・レンタル・受託をおこなっております。全国の大学、大手の研究機関・R&D部門・生産部門でも多数ご利用頂いており、高い処理効果が有ります。又、社内で設計から製造まで全ておこない、専任の技術者により、あらゆる仕様に対し、親身に対応させて頂いております。 【特徴】 ■熱によるダメージは殆んどありません。 →熱に対して脆弱なサンプルへの処理が可能です。 (条件によってはサンプル表面を40℃程度に。) ■コロナ放電のような電流集中したアーク状態ではありません。 →処理対象物へ電荷のダメージを与えません。 ■窒素のみをプラズマ化。 →ArやHeなどの高価なガスは必要としません。 ■AC100Vのコンセントで動作しますので、様々の状況での使用が可能です。 ■スリット型トーチ(5mm～100mm)噴射幅対応 ※デモ処理、装置のレンタルもいたします。詳細は、『ダウンロード』からご確認下さい。
【国産】超小型、微細な加工やラボ用途に適した、ペン型タイプの大気圧プラズマ装置！安価な価格帯で手軽にご使用頂けます。
洗浄・表面改質・親水化・接着強化に優れた、ペン型タイプの大気圧プラズマ装置の販売・レンタル・受託をおこなっております。 【特徴】 ■熱によるダメージは殆んどありません。 →熱に対して脆弱なサンプルへの処理が可能です。 (条件によってはサンプル表面を40℃程度に。) ■コロナ放電のような電流集中したアーク状態ではありません。 →処理対象物へ電荷のダメージを与えません。 ■窒素のみをプラズマ化。 →ArやHeなどの高価なガスは必要としません。 ■AC100Vのコンセントで動作しますので、様々の状況での使用が可能です。 ※デモ処理、装置のレンタルもいたします。詳細は、『ダウンロード』から ご確認下さい。
接着強化・濡れ性向上・洗浄効果有り、薄膜形成や各種接合・塗装・メッキの前処理などの表面処理、バイオ、医療分野にも最適。
国産プラズマ装置メーカー『魁半導体』。プラズマは、薄膜形成や各種接合・塗装・メッキの前処理などの表面処理、その他、バイオ、医療分野に最適です。PEN型大気圧プラズマ、大気圧プラズマシリーズ、卓上真空プラズマ装置、粉体プラズマなどをラインナップしております。株式会社魁半導体は国内でも少ない国産プラズマ装置メーカーで、”ニーズの発掘によって、シーズを提供する”を理念に日夜努力しております。難しい注文をお申し付け頂けましたら誠心誠意お応えさせて頂きます。液体ソースを用いた堆積装置、表面改質装置等を含むプラズマを用いた各種半導体製造装置の開発、および製造販売や委託研究による半導体製造装置の開発および製造販売を取り扱いお客様のニーズにお応えします。今なら総合カタログ無料でプレゼント中！詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。
【国産】低温・電荷ダメージなし！簡易型大気圧プラズマ装置 洗浄・表面改質・親水化・接着強化に高い処理実績！ラボ用途小ロット向け
洗浄・表面改質・親水化・接着強化に優れた、簡易型の大気圧プラズマ装置の販売・レンタル・受託をおこなっております。当装置はラボや小ロット向けで導入しやすい安価な価格帯です。全国の大学、大手の研究機関・R&D部門・生産部門でも多数ご利用頂いており、高い処理効果が有ります。又、社内で設計から製造まで全ておこない、専任の技術者により、あらゆる仕様に対し、親身に対応させて頂いております。 【特徴】 ■熱によるダメージは殆んどありません。 →熱に対して脆弱なサンプルへの処理が可能です。 (条件によってはサンプル表面を40℃程度に。) ■コロナ放電のような電流集中したアーク状態ではありません。 →処理対象物へ電荷のダメージを与えません。 ■窒素のみをプラズマ化。 →ArやHeなどの高価なガスは必要としません。 ■AC100Vのコンセントで動作しますので、様々の状況での使用が可能です。 ■スリット型トーチ(φ20mm)噴射幅対応 ※デモ処理、装置のレンタルもいたします。詳細は、『ダウンロード』からご確認下さい。
ダイレクト式の大気圧プラズマ装置でフィルム両面を連続で表面処理が可能。空気をプラズマ化し大面積処理が可能(～1000mm)！
ダイレクト式の大気圧プラズマ装置！ 高い処理能力で空気をプラズマ化する事でランニングコストが安価です。図に示すようロールtoロールでフィルムの連続処理が可能になります。その他コンベアーなどと組み合わせる事によりガラスや樹脂成型品等、様々な材料にご利用頂けます。大面積処理が可能１m幅の処理も可能です。 まずは無償デモ処理にて効果をお試し下さいませ。 ※詳細はカタログをダウンロード頂くか直接お問い合わせください。
外部からガスを供給することなくプラズマ処理が可能です。 表面処理（塗装、接着、印刷等の前処理）、バイオ・医療分野にも。
製品の特徴 ペンタイプで扱いが容易 ガス供給が不要、AC100V の電源接続のみで使用可能 簡単操作 小型コントロールボックス コロナ放電タイプと違い、対向電極不要 処理対象への電荷ダメージなし
面状の大気圧プラズマで表面クリーニング！直径50mm内の平面で均一に処理可能！
卓上大気圧アッシャーとは、水や洗剤を使わず、大気圧プラズマにより有機物を除去可能な小型のプラズマ処理装置です。 搬送機で動かすことなく、直径50mm内の平面で均一に処理可能です。 大気圧での有機物除去とクリーニング用途等【面】状のワークに適しています。 【特徴】 ■点でもなく線でもなく『面』を一気に処理可能 ■実験に適している小型卓上サイズ ■ガス供給と真空排気設備が不要 【用途】 ■接着・コーティング前処理 ■機械用品の洗浄 ■光学部品（レンズ・ミラー）の洗浄 ■細胞培養容器などの前処理 ※詳細はカタログのダウンロードもしくはお気軽にお問い合わせください。
