食品製造用 マイクロ波真空乾燥装置(肉類・野菜類の乾燥用途)
素材を直接加熱することで素材の劣化も少なく、効率の良い乾燥が可能。
低温での急速乾燥・濃縮を目的とした装置です。 弊社が長年培ってきたマイクロ波加熱技術を応用し 真空チャンバー内の素材を直接加熱することにより 素材の劣化も少なく、かつ効率の良い乾燥が行えます。
- 企業:株式会社廣電
- 価格:500万円 ~ 1000万円
更新日: 集計期間:2025年03月26日~2025年04月22日
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素材を直接加熱することで素材の劣化も少なく、効率の良い乾燥が可能。
低温での急速乾燥・濃縮を目的とした装置です。 弊社が長年培ってきたマイクロ波加熱技術を応用し 真空チャンバー内の素材を直接加熱することにより 素材の劣化も少なく、かつ効率の良い乾燥が行えます。
加圧乾燥装置・真空乾燥装置
加圧・加熱による沸点を下げた加圧乾燥方法、真空・加熱による沸点を下げた真空乾燥方法を装置化。 あらゆる製品に対して最適な乾燥方法を提供する装置です。
棚数は10段!PID制御による5面加熱で安定した温度均一性を維持しながら乾燥
『OSK 93TI304』は、食品乾燥用に棚数を増やし5面加熱できる 新たな真空乾燥器です。 精密な乾燥プロセスと広い棚スペースにより、食品用に特化。 最高温度150℃、観測窓、庫内照明つきで、安全規格のCE、UL認証取得品です。 ご用命の際は、お気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■棚数10段の庫内は5面加熱式 ■精密な乾燥プロセスと広い棚スペースにより、食品用に特化 ■PID制御による5面加熱で安定した温度均一性を維持しながら乾燥 ■最高温度150℃、観測窓、庫内照明つき ■安全規格:CE、UL認証取得品 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
減圧中も加熱する為、製品の昇温が早く、乾燥時間が短縮
加熱真空乾燥装置は、乾燥速度が速い為、シミが出難く、錆・腐食の発生も少なくなっております。
各ヒーターゾーン6面を独立したPID方式にて制御し、温度指示値の信頼性も非常に高い!
『E069』は、部品を減圧下において加熱し、乾燥処理を おこなうことを目的とした真空乾燥装置です。 各ヒーターゾーン6面を独立したPID方式にて制御。 温度指示値の信頼性も非常に高くなっております。 また、プログラムコントローラにより19パターンのプログラムを 記憶することが可能です。 【特長】 ■部品を減圧下において加熱し、乾燥処理をおこなう ■各ヒーターゾーン6面を独立したPID方式にて制御 ■温度指示値の信頼性も非常に高い ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
省スペースで、各業界の機械表面仕上げに関する基準に適合
タテ型乾燥機で、特殊な混合羽根(ミキシングツール)により理想的な渦巻き運動を生じさせ、本体ジャケットとミキシングツールの加熱を行うことで、短時間での優しい混合・乾燥を実現。 乾燥以外にも加熱、冷却、熱処理、滅菌、反応などの操作も可能。
省エネルギー!低温乾燥!素材変性なし!低温での急速乾燥・濃縮を可能にしたマイクロ波真空乾燥装置
「マイクロ波真空乾燥装置 HMVD2-1」は、低温(約35℃)で水分を沸騰させ蒸気にして排出し乾燥させる真空乾燥装置です。 低温で乾燥させるため、温度による素材変性がなく、食品の品質を劣化させることがありません。 弊社が培ったマイクロ波加熱技術を応用し、チャンバーを真空にすることにより実現致しました。 また、乾燥を行うと同時に、発生した蒸気を冷却・凝縮することにより、抽出液として取り出すことが可能です。 【特徴】 ■真空乾燥により低温乾燥を可能に ■直接加熱でエネルギー効率化・時短乾燥 ■マイクロ波加熱方式で素材劣化の防止 ■蒸発物を冷却凝縮、抽出液として取り出し可能 ■食品・薬品等の乾燥・濃縮が可能 ※詳しくはカタログをダウンロード、もしくはお問い合わせください。
CE、UL認証取得品!複数のヒーターの個別温度管理により精密な温度制御が可能
『OSK 93TI303』は、棚板ごと加熱方式により精密温度制御ができる高容量の 真空乾燥器です。 高濃縮食品、化学、セラミックの結晶、粉末の乾燥に適合(40℃以下乾燥可能)。 多量の水分を含む試料(含水率3%以下まで)も乾燥できます。 真空加熱で設定温度まで速やかに到達し、保温性の高い筐体で安定した 温度均一性を維持できます。 【特長】 ■高濃縮食品、化学、セラミックの結晶、粉末の乾燥に適合(40℃以下乾燥可能) ■多量の水分を含む試料(含水率3%以下まで)も乾燥可能 ■棚板ごとに加熱・温度制御可能 ■精密な乾燥プロセスを要求される食品業界などでも利用可能 ■真空加熱で設定温度まで速やかに到達 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
弊社従来品との比較では、同じ温度条件でほぼ2倍以上の乾燥率、乾燥時間は半分以下への短縮を実現!
「もっと効率の良い真空乾燥機は作れないのか…」答えは 高輻射 にありました! 弊社従来品との比較では、同じ温度条件でほぼ2倍以上の乾燥率、 乾燥時間は半分以下への短縮を実現。 真空環境下では、対流による加熱ができないため、加熱方法としては、伝導熱または輻射熱による加熱となります。 真空下で高輻射を実現できるということは、加熱が素早くでき、大幅なコストダウンにも繋がります。 真空乾燥機の熱源部に、弊社独自の画期的な特殊加工(特許出願中)を行うことで、真空下での輻射熱を増すことに成功し、ワークの熱吸収量が格段に上がることが確認できました。 弊社、真空乾燥機のどの機種にも対応可能、テスト機による比較検証もできます。
電子材料から医薬品にまで使用可能!熱に弱い原料も効率良く乾燥できる棚式真空乾燥機
「箱型棚式真空乾燥機」は真空下での低温乾燥を行うことで、熱に弱い原料や酸化を嫌う原料も効率よく乾燥できる乾燥機です。コンタミを大幅にカットすることもできます。 【特長】 ◆熱に弱い原料や酸化を嫌う原料も乾燥が可能 ◆高真空での処理により、製品の含水率をきわめて低く抑えられる ◆液状物から高濃度・高粘度物にも対応可能 【詳しくはカタログダウンロードまたはお気軽にお問い合わせください】
低ランニングコストが魅力の蒸気加熱式の防爆真空乾燥機。
電気計装機器はエアパージ構造とし、他の機器は防爆仕様とすることで揮発性ワークなどの乾燥に対応します(簡易防爆仕様)。 蒸気ラインにも電磁弁を装備することで安全性を確保しています。
加熱と真空を繰り返し自動的に行い、よりクイックに乾燥ができる真空乾燥機をご紹介
『NVOW-40』は、気圧を低下させ付着液の沸点を下げて乾燥を行う 真空乾燥機です。 真空度は90kPa。 比較的低温乾燥したい製品(半導体関連)や、複雑で微細な製品に好適です。 加熱と真空を繰り返し自動的に行い、よりクイックに乾燥ができます。 【特長】 ■気圧を低下させ付着液の沸点を下げて乾燥を行う ■比較的低温乾燥したい製品(半導体関連)や、複雑で微細な製品に好適 ■加熱と真空を繰り返し自動的に行い、よりクイックに乾燥が可能 ■液の種類、製品の形状、安全性などを考慮に入れている ■短時間で効果的なクリーンな乾燥を行う ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
高含水率材の乾燥にも対応!高周波によって時間を大幅に短縮する真空乾燥装置
『HIGH ELEC DRYER』は、真空缶体に収容した木材を高周波によって加熱し、 短時間で高品質、高歩留りの乾燥を行う装置です。 低温、高湿度の環境で乾燥するため損傷の発生が減少し 色合い、光沢を損なわずに乾燥できます。 高周波による自己発熱(内部加熱)なので、厚材の内部も同時に加熱され乾燥。 水分にも吸収されやすく、材の初期含水率にバラツキがあっても含水率は 乾燥の進行とともに均一化されます。 ボタンを押せば自動運転が行われ、乾燥完了までノータッチ、操作は簡単です。 【特長】 ■乾燥時間を大幅短縮 ■低温乾燥(品質一定) ■厚材、高含水率材の乾燥が容易 ■油圧シリンダーにて圧締 ■ヤニ滲出防止効果 ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。
減圧による沸点低下を利用で低温度でも乾燥が可能!高温で変質の恐れがある素材の乾燥に最適!
減圧による沸点低下を利用しており、低温度でも乾燥が可能ですので、高温で変質の恐れがある素材の乾燥に適しています。 また、真空度の微調整ができますので、最適効率で乾燥できます。 大型・大量生産用仕様で、工場レイアウトやユーティリティに合わせた設計が可能です。 また、加熱棚は固定式だけでなく、台車収容式でも設計が可能です。台車収容式であれば、大量のトレーでも楽に移動させることができます。 【特長】 ■乾燥室は、衛生的で、洗浄しやすいオールステンレス製 ■大量のトレーでも楽に移動させることができる台車式仕様も可能 ■真空度の微調整が可能で、原料が沸騰・飛散することなく最適効率で乾燥できる ■万が一のトラブル発生時には「自己診断機能」で復帰までの操作をメンテナンス画面にてご案内 ■見やすく使いやすいタッチパネルで、乾燥までの全自動運転が可能 ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧下さい。