更新日： 集計期間:2025年08月20日～2025年09月16日
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陰解法と陽解法を統合。熱、電気、磁場、流体など多岐に渡る現象解明に。
非線形構造解析では、材料・幾何学・境界条件の三つの非線形性がキーとなります。近年の設計現場では、複雑な材料モデルを使用したアセンブリ部品での接触を考慮した製品設計を余儀なくされています。Abaqusは、古典的な金属材料の構成則はもちろんのこと、速度依存による破壊モデルやゴム・樹脂などの高分子材料のモデル化を的確に行えます。また、革新的なサーフェス/サーフェスの接触の定式化は、他の構造解析ツールに比べて、よりロバストな収束性と高い解析精度を実現します。一般接触機能では、ユーザーによる設定がほとんど必要ないため、自動車、航空機、家電製品、携帯電子機器などで見られる複雑なアセンブリで接触を定義する時間を大幅に短縮します。
『Particle-PLUS』は2周波CCP 解析も得意とする 粒子法を用いたプラズマ・希薄流体解析ソフトウェアです
『Particle-PLUS』はCCPにも対応した プラズマを用いた装置・デバイス研究開発に適した シミュレーションソフトウェアです ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのシミュレーションを得意とする ・CCPや外部回路モデル等の高度な物理モデル解析 ・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析 ・自社開発ソフトの強みとして 標準機能でのCCP,マグネトロンスパッタ計算はもちろん、 お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能 ◆さまざまな事例に対応◆ ・マグネトロンスパッタ ・PVD、プラズマCVD ・容量結合プラズマ (CCP) ・誘電体バリア放電 (DBD) など ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・ポテンシャル分布 ・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布 ・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス ・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル ・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布 など ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。 information@wavefront.co.jp
『Particle-PLUS』はICPやCCP 解析も得意とする 粒子法を用いたプラズマ・希薄流体解析ソフトウェアです
『Particle-PLUS』はICPやCCPにも対応した プラズマを用いた装置・デバイス研究開発に適したソフトウェアです ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのシミュレーションを得意とする ・ICP シミュレーションのための誘導加熱の計算機能 ・CCPや外部回路モデル等の高度な物理モデル解析 ・ICP とCCP を同時にシミュレートすることが可能 ・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析 ・自社開発ソフトの強みとして お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能 ◆さまざまな事例に対応◆ ・マグネトロンスパッタ ・PVD、プラズマCVD ・容量結合プラズマ (CCP) ・誘電体バリア放電 (DBD) など ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・ポテンシャル分布 ・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布 ・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス ・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル ・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布 など ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。 sales@wavefront.co.jp
3Dのバーチャルタイピングを可能とし、より高品質で低開発コストの製品を開発！
Creo Simulateは、 Creo Parametricの操作環境にて、構造強度解析。熱解析、振動解析などが行えるシミュレーターオプションとなります。 この包括的な機能により、最初の実部品を作成する前に 3D の仮想プロトタイプの性能を確認することができます。 市場投入期間を短縮すると同時に、製品の耐久性、信頼性、安全性を向上できる、貴重な視野を得ること ができます。 Creo Simulateにより、物理プロトタイプの必要性が少なくなるため、 製造コストも削減できます。 これらのソリューションを使用することで、設計をすばやく簡単に変更し、 エラーを減らして、製品を軽量化できるほか、 コスト パフォーマンスの高い製造プロセスと材料の選択が確実に行われるようになります。 【主なメリット】 • 早い段階で製品パフォーマンスを把握し、設計の欠陥を 検出することができるので、初期設計の質が高まります。 • 直感的で使いやすいユーザー インタフェースにより、 作業効率が向上します。
『Particle-PLUS』はICPやCCP 解析も得意とする 粒子法を用いたプラズマ・希薄流体解析ソフトウェアです
『Particle-PLUS』はICPやCCPにも対応した プラズマを用いた装置・デバイス研究開発に適したソフトウェアです ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのシミュレーションを得意とする ・ICP シミュレーションのための誘導加熱の計算機能 ・CCPや外部回路モデル等の高度な物理モデル解析 ・ICP とCCP を同時にシミュレートすることが可能 ・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析 ・自社開発ソフトの強みとして お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能 ◆さまざまな事例に対応◆ ・マグネトロンスパッタ ・PVD、プラズマCVD ・容量結合プラズマ (CCP) ・誘電体バリア放電 (DBD) など ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・ポテンシャル分布 ・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布 ・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス ・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル ・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布 など ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。 sales@wavefront.co.jp
プラズマシミュレーションの専門家、テキサス大学オースティン校のRaja教授によって開発されたソフトウェアです。
VizGlowはプラズマシミュレーションの専門家、テキサス大学オースティン校のRaja教授が設立した、米国Esgee Technologies社によって開発された、汎用プラズマシミュレーションソフトウェアです。
お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能！複雑なモデルでも効率良く解析
『Particle-PLUS』は、プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・ 製造に適したシミュレーションソフトウェアです。 軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで装置全体のシミュレーションを 行う必要なく、 高速に結果を得ることが可能。 2D(2次元)、3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます。 【特長】 ■低圧プラズマ解析が得意 ■軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで装置全体の シミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることが可能 ■流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションが得意 ■2D(2次元)、3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析可能 ■自社開発ソフトの強みとしてお客様の装置に合わせたカスタマイズも可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
クロスライトソフトウェアのTCADによるパワー半導体デバイスの解析ツール
運動トラック形状のポリシリコンゲート(Race Track Poly Gate)を持つLDMOSと六角型ポリシリコンゲート(Hexagonal Poly Gate)を持つDMOSを題材にデバイスのシミュレーションの概要を紹介。
完全3Dシミュレーション可視化技術により、トライ＆エラーを削減するテクノロジーを提供します！
完全3次元樹脂流動解析Moldex3Dは、プラスチックの成形工程における金型内部の挙動をコンピューター上でシミュレーションし、様々な工程で起こりうるトラブルを未然に把握、防止することを目的としたCAEソフトウェアです。 【特長】 ■有限体積法による大規模・高速解析 高精度3次元解析 従来の有限要素法（FEM）では、計算時間は要素数に対して幾何級数的に増加しますが、有限体積法（FVM）では線形的に増加するため、要素数が多いほど圧倒的に優位となります。 ■高精度3次元解析 非ニュートン流体に基づくNavier-Stokes方程式を忠実に解き、慣性や重力の影響も考慮できるので、ランナーバランス，ジェッティング等の複雑な現象にも対応可能です。非定常冷却解析やベント解析も標準で対応しています。 ■ハイパフォーマンス計算機能 マルチコア、マルチCPU、マルチPCクラスタを効率よく活用することで、計算速度を実現します。 ・流動解析 ・保圧解析 ・冷却解析 ・応力解析 ・そり変形解析 ・構造解析連携 などに対応しています。 詳しい機能についてはカタログをご参照ください。
実用的な3次元シミュレーションへのアプローチの方法
クロスライトのTCADを利用した3次元プロセス、デバイスシミュレーション。メッシュ生成、デバイス構造の作りこみ、解析などを各種デバイス(CMOSイメージセンサー、LDMOS、FINFET、DMOS、LIGBT)を例にその機能やしくみを紹介。また、GPUによるシミュレーションについても紹介。
『Particle-PLUS』 はプラズマ反応炉や化学蒸着(CVD)などのシミュレーションに適したプラズマ解析ソフトウエアです。
Particle-PLUSは、粒子法を用いたプラズマ・希薄流体解析ソフトウェアです。プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造などに有効なソフトです。二周波CCPや外部回路モデルなどの高度な物理モデルに対する解析も可能です。充実したサポートによりシミュレーションが始めての方や実験で忙しい方々も確実に結果を出すことができます。プラズマを解析するのに粒子モデルを用い、電子・イオンを代表する粒子の運動を追跡するPIC / MC (Particle In Cell / Mote Carlo)法を採用しております。また、対象プラズマ密度に応じて比較的高密度では陰解法を、低密度では陽解法と使い分けることにより、複雑なモデルでも効率良く解くことができます。特に流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします。標準機能でのCCP、ICP、マグネトロンスパッタ計算はもちろんのこと、お客様の装置にあわせたカスタマイズも行っております。
『Particle-PLUS』は2周波CCP 解析も得意とする 粒子法を用いたプラズマ・希薄流体解析ソフトウェアです
『Particle-PLUS』はCCPにも対応した プラズマを用いた装置・デバイス研究開発に適した シミュレーションソフトウェアです ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とする ・CCPや外部回路モデル等の高度な物理モデル解析 ・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析 ・自社開発ソフトの強みとして 標準機能でのCCP,マグネトロンスパッタ計算はもちろん、 お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能 ◆さまざまな事例に対応◆ ・マグネトロンスパッタ ・PVD、プラズマCVD ・容量結合プラズマ (CCP) ・誘電体バリア放電 (DBD) など ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・ポテンシャル分布 ・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布 ・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス ・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル ・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布 など ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。 information@wavefront.co.jp
『Particle-PLUS』はマグネトロンスパッタ装置を得意とする 粒子法を用いたプラズマ・希薄流体解析ソフトウェアです
『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・CCPや外部回路モデル等の高度な物理モデル解析が可能です ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます ・自社開発ソフトの強みとして 標準機能でのCCP,マグネトロンスパッタ計算はもちろん、 お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能です ◆さまざまな事例に対応◆ ・マグネトロンスパッタ ・PVD、プラズマCVD ・容量結合プラズマ (CCP) ・誘電体バリア放電 (DBD) ・電気泳動 など ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・ポテンシャル分布 ・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布 ・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス ・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル ・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布 など ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。
ユーザー独自のライブラリも作成可能！基本的な熱・油圧シミュレーション
『GT-SUITE』を使用してすべての種類の燃料噴射、油圧のコンポーネント、 システムを設計・解析・最適化することができます。 コンポーネントの詳細モデリングは、流体構造の相互作用をモデル化する、 柔軟でよりハイレベルな流体・機械テンプレート（FMT）を使用して 容易に行うことができます。 テンプレートを利用すれば、任意の噴射・油圧式モデルを短時間で作成でき、 操作が簡単なグラフィカルプログラミング法やユーザーサブルーチンを使用して、 ユーザー独自のライブラリも作成することができます。 【アプリケーション例】 ■燃料噴射 ・コモンレール、直噴・ポート噴射、ユニットインジェクタ、ポンプラインノズル ・高圧・低圧システムとそれぞれの相互作用 ・ディーゼル、ガソリン、その他代替燃料（E85、DME、LPGなど） ・ソレノイド、ピエゾ、電気・油圧式、または機械式のアクチュエーション ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
電子機器に対する冷却設計にご利用いただいた事例などをご紹介！
三菱電機様が多種多様な熱流体システム技術構築に当社の製品を ご活用いただいた事例をご紹介いたします。 同社は今後の技術構築のために最適化ツールの活用が必須であると考え、 modeFRONTIERとFloTHERMを導入し、早速、業務で必要になった 自然空冷ヒートシンクの形状最適化にトライされました。 最適化の計算条件は、入力変数に内側フィンの枚数、ベースの厚み、 フィンの高さ、フィンの厚みを設定し、幅、長さ、全体の高さは固定値として、 最適化計算を実施、最適形状を抽出を実現。 さらに、基板上の部品配置の最適化計算にも活用されています。 【特長】 ■汎用的な技術を構築し製品開発に貢献 ■大規模計算、ユーザー数の増加、多拠点化などに対応できるCFDツール ■計算時間の短縮が見込める ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
