【高周波洗浄ユニット:用途例】半導体製造工程
出力が低い所でも安定した性能を維持!繊細な部品洗浄にも適しています。
半導体製造工程において「高周波洗浄ユニット」を ご提案いたします。 スパッター装置や、CVD装置などをお使いのお客様で、冶具の再生を メーカー等に依頼されていらっしゃる方も多いと思います。 特定のお客様では、超音波で部品にダメージを与えてしまうケースがあります。 当社の超音波は、出力が低い所でも安定した性能を維持できるので そのような、繊細な部品洗浄にも適しています。 希少金属や、金などをより多く回収し、同時に冶具のクリーン度、 金属イオンの完全除去など様々な周波数の超音波を駆使して 洗浄品質向上をお手伝いします。 【特長】 ■洗浄槽が大型になるケースが多い洗浄槽内で、均一なパワーの分布を実現 ■幅広い出力調整幅で洗浄力を最適化 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業:ユーシー・ジャパン株式会社
- 価格:応相談