更新日： 集計期間:2026年07月22日～2026年08月18日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。
更新日： 集計期間:2026年07月22日～2026年08月18日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。
更新日： 集計期間:2026年07月22日～2026年08月18日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。
1～6 件を表示 ／ 全 6 件
2重構造チャンバによるメンテナンス負荷低減と内容積のコンパクト化を実現 弊社の熱ソリューションを集約し最適な温度管理を実現
ワッティーが提供する実験・研究開発向け装置 2inch～8inchモデルまでの装置をご用意し、ユーザーニーズにお応え いたします。 また各種付帯設備をオプションでご用意しており、お客様の導入時の 設備導入負担を軽減します。 安全仕様・プリカーサ本数・プリカーサ導入方法・排気系統、あらゆる 項目についてカスタマイズのご要望にお応えいたします。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 ▼お問い合わせ先 TEL：相模原事業所 042-704-5352 MAIL：info@watty.co.jp
500℃ウエハステージ！プラズマダメージの無いリモートICPソース採用
『Fiji G2』は、サーマル式とプラズマ式の研究開発用ALD装置です。 プラズマ源にICPリモートプラズマを採用し、基板搬送に 真空ロードロックを搭載し、高品質の酸化膜、窒化膜、メタル膜の ALD膜が成膜できる設計。 また、簡易除害ユニットALD Shield Vapor Trapを標準搭載しており、 プラズマガスラインは最大6ラインとなっております。 【特長】 ■500℃ウエハステージ ■プラズマダメージの無いリモートICPソース採用 ■超高アスペクト比(＜2000：1)対応モード(サーマル) ■プラズマガスライン：最大6ライン ■プリカーサライン：最大6ライン ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
ワーク材質や膜種、膜厚から、弊社がご提案する技術や加工例をご紹介！
「気相技術」は、樹脂原料・燃料電池など『新素材・新材料』『エネルギー』、医療センサー・機器など『医療・ヘルスケア』、電子部品・新ディスプレイなど『モバイル端末』『ウェアラブル機器』『オートモーティブ』など多様な分野で活用されています。 また、多様なプロセス・膜厚・膜種で1nm～1000nmの成膜を実現。 蒸着方式やCVD方式、ALD方式、スパッタ方式でコーティングしています。 【特長】 ■ALDロボットCVA series ALDでは難しいと言われている低温での高品質な成膜が可能 ■バレル型ALDロボットCVA-B series 低温ALD装置とバレル機構の融合 ■低温高周波励起DLC成膜装置CVC series 低温で、グラファイトからDLCまで密着性の良い成膜が可能 ■バブリングCVDロボットCVB series 液体→気体 低温で、低コスト＆高品質成膜が可能 ■IBAD（イオンアシスト蒸着法）CVI series IBADによる受託成膜例 低温での低エネルギー照射を可能にし、タッチパネルの透明導電膜（Zn O）や高融点金属電極形成の密着性が向上
共に成長する研究開発向けALD装置
『Beneq TFS 200』は、学術研究および企業のR＆Dに適した、 高い柔軟性を誇るALD研究プラットフォームです。 マルチ・ユーザーの研究環境で起こり得るクロスコンタミを 最小限に抑えるよう特殊設計されています。 また、ウェーハや平面物体、粒子、多孔質バルク材、および非常に高いアスペクト比を 特長とする複雑な3次元物体に、上質の成膜をすることを可能にする 技術ソリューションを提供いたします。 【取扱製品(一部)】 ■3Dおよびバッチ生産 ■研究設備 ■半導体装置 ■空間ALD装置 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
ALD研究およびとバッチ生産向けのプラットフォーム
『Beneq TFS 500』は、薄膜成膜用途での様々な使用に適し、 マルチ・プロジェクト環境に好適なツールです。 手動操作のロードロックを搭載して、ウェハ処理能力を高めることが可能。 異なる種類の反応チャンバを真空チャンバ内部に取り付けることができ、 お客様の用途に合わせて各反応チャンバを最適化することができます。 また、工業的信頼性に関する厳しい要件と、R＆D業務の柔軟性へのニーズの両方を 満たすことが可能。プロセス構成部品はスペア・パーツの可用性が確保されます。 【取扱製品・サービス】 ■3Dおよびバッチ生産 ■研究設備 ■コーティングサービス ■研究開発サービス ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
『無料サンプル』進呈中！【PDFダウンロード】ボタンからお申し込み方法をご確認いただくか、関連リンクから直接お申し込みください。
世界のALD装置の市場規模は、2023年に39億米ドル、2028年までに62億米ドルに達し、2023年～2028年にCAGRで10.0%の成長が予測されています。 当レポートでは、世界のALD装置市場について調査分析し、主な促進要因と抑制要因、競合情勢、将来の動向などの情報を提供しています。
