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有機金属原料および酸化剤を交互に反応室に供給し、表面反応のみで成膜します
『AD-230LP』は、原子レベルの膜厚制御が可能なALD装置です。 有機金属原料および酸化剤を交互に反応室に供給し、表面反応のみで成膜。 ロードロック室を有し、反応室を大気開放することがないため、再現性に 優れた成膜が可能です。 また、容量結合プラズマ(CCP)方式を採用することで、反応室容積を最小化 しており、ガスのパージ時間を短縮し、1サイクルを高速化します。 【特長】 ■上部、中部、底部とコンフォーマルな成膜 ■原子一層レベルの均一なレイヤーコントロールが可能 ■高アスペクト比構造へのコンフォーマルな成膜が可能 ■面内均一性と再現性に優れ、安定したプロセスを実現 ■独自の反応室構造により、パーティクルを抑制 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
ALDでは難しいと言われている低温(常温～100℃)＆大気圧中で粉体成膜が可能！
【特徴】 ・大気圧中で旋回流を利用した粉体成膜 ・用途に応じた膜厚の制御が可能 ・極低温(常温～100℃)での成膜が可能 【応用例】 ・全固体電池用粉体に対するSiO、Al2O3成膜 ・誘電体材料、磁性材料など粉体への成膜 ・量子ドット粉末 【成膜のご相談やテスト成膜可能です】 クリエイティブコーティングスでは、 テスト成膜やサンプル作成を承っております。 お客様のご要望を聞きし、 適した装置、膜種や膜厚のご提案も可能です。 まずはお気軽にご相談ください。 ++++++++++++++++++++++++++++++ 時代と環境が求める次世代の気相技術を提供します。 半導体向け極低温高密度プラズマALD装置と 極低温高密度プラズマ粉体ALD成膜装置の 二刀流技術で技術革新に貢献します。
