ALDでは難しいと言われている低温(常温～100℃)＆大気圧中で粉体成膜が可能！
【特徴】 ・大気圧中で旋回流を利用した粉体成膜 ・用途に応じた膜厚の制御が可能 ・極低温(常温～100℃)での成膜が可能 【応用例】 ・全固体電池用粉体に対するSiO、Al2O3成膜 ・誘電体材料、磁性材料など粉体への成膜 ・量子ドット粉末 【成膜のご相談やテスト成膜可能です】 クリエイティブコーティングスでは、 テスト成膜やサンプル作成を承っております。 お客様のご要望を聞きし、 適した装置、膜種や膜厚のご提案も可能です。 まずはお気軽にご相談ください。 ++++++++++++++++++++++++++++++ 時代と環境が求める次世代の気相技術を提供します。 半導体向け極低温高密度プラズマALD装置と 極低温高密度プラズマ粉体ALD成膜装置の 二刀流技術で技術革新に貢献します。
この製品へのお問い合わせ
基本情報
【チャンバーサイズ】 φ400mm 【成膜スペック】 ・磁性粉体や全固体電池、金属微粒子等粉体へ成膜の場合 ワーク種：磁性粉体、全固体電池（硫化物系、酸化物系）、金属微粒子他 ワークサイズ：ф100mm以上あれば形状を問いません 【適応膜】 SiO、Al2O3等 ※自社設計＆装置製造のため、チャンバーサイズや成膜スペック等ご相談可能です。 お気軽にご連絡ください。
価格帯
納期
用途／実績例
・全固体電池用粉体に対するSiO、Al2O3成膜 ・電池原料粉体、磁性粉体 ・量子ドット粉末 ・粉体（QD粉、蛍光粉体等）
ラインアップ（2）
| 型番 | 概要 |
|---|---|
| 極低温高密度プラズマ粉体ALD成膜装置 CMP-200 | チャンバーサイズ:φ200mm、大気圧下での粉体用連続成膜、実験/研究開発用途向け |
| 極低温高密度プラズマALD装置 CMVA-500P | チャンバーサイズ:□500mm、真空中での低温(室温)ALD装置、実験/研究開発用途向け粉体仕様 |
企業情報
カーボンニュートラル実現に向けたキーテクノロジーの1つである次世代電池、さまざまな機能を持ったナノスケールの機能性粒子、５G・６G通信システムや環境対応車の普及、先進運転支援システム (ADAS)の進歩を背景に超小型化・高信頼性が求められるMLCCをはじめとする受動部品、DXによる質の高い医療、AI・デジタル化の進む医療機器など、社会のあらゆる分野で我々のコーティング技術に期待が集まっています。
