ALD装置 Beneq TFS 200
共に成長する研究開発向けALD装置
『Beneq TFS 200』は、学術研究および企業のR＆Dに適した、 高い柔軟性を誇るALD研究プラットフォームです。 マルチ・ユーザーの研究環境で起こり得るクロスコンタミを 最小限に抑えるよう特殊設計されています。 また、ウェーハや平面物体、粒子、多孔質バルク材、および非常に高いアスペクト比を 特長とする複雑な3次元物体に、上質の成膜をすることを可能にする 技術ソリューションを提供いたします。 【取扱製品(一部)】 ■3Dおよびバッチ生産 ■研究設備 ■半導体装置 ■空間ALD装置 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
- 企業：Beneq株式会社
- 価格：応相談
