共に成長する研究開発向けALD装置
『Beneq TFS 200』は、学術研究および企業のR＆Dに適した、 高い柔軟性を誇るALD研究プラットフォームです。 マルチ・ユーザーの研究環境で起こり得るクロスコンタミを 最小限に抑えるよう特殊設計されています。 また、ウェーハや平面物体、粒子、多孔質バルク材、および非常に高いアスペクト比を 特長とする複雑な3次元物体に、上質の成膜をすることを可能にする 技術ソリューションを提供いたします。 【取扱製品(一部)】 ■3Dおよびバッチ生産 ■研究設備 ■半導体装置 ■空間ALD装置 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
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企業情報
弊社Beneq株式会社は、フィンランドに本社を持つALD（Atomic Layer Deposition：原子層成膜）装置のプロバイダーBeneq OYの日本法人です。 当社は1984年に、当社は世界初となるALDを用いた製品を生産。現在では、R&D向け製品（TFS 200、TFS 500）、3Dおよびバッチ生産向け（P400A、P800、P1500）、高速成膜Spatial(空間分離型) ALD（C2R）、Roll to Roll ALD（Genesis）、半導体デバイス製造向け（Transform、Transmute、Prodigy）といった製品により、市場をリードしています。 （注）半導体デバイス製造向け装置に関しましては、本ページには記載しておりません。当社までお問い合わせください。
