共に成長する研究開発向けALD装置
『Beneq TFS 200』は、学術研究および企業のR＆Dに適した、 高い柔軟性を誇るALD研究プラットフォームです。 マルチ・ユーザーの研究環境で起こり得るクロスコンタミを 最小限に抑えるよう特殊設計されています。 また、ウェーハや平面物体、粒子、多孔質バルク材、および非常に高いアスペクト比を 特長とする複雑な3次元物体に、上質の成膜をすることを可能にする 技術ソリューションを提供いたします。 【取扱製品(一部)】 ■3Dおよびバッチ生産 ■研究設備 ■半導体装置 ■空間ALD装置 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
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企業情報
当社はフィンランドに本社を持つ、ALD装置のプロバイダです。 生産や研究用途向けに高品質のツールを開発し、また工業用ALDソリューションを通じて技術面において大きな潮流を生み出すことを使命としています。 当社の製品は、マルチ・ユーザの研究環境においてクロスコンタミを最小限に抑えるよう設計されてきました。最も厳しい研究要件に対し様々なオプションとアップグレードをご提供します。