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ランプ加熱式の為にRTP、RTCVD処理可能！クオーツ製チューブ型チャンバー
『MC-050』は、最大50mm径基板対応のDLI-CVD/DLI-ALD装置です。 最大成膜温度は1100℃(ランプ加熱方式)で、最大6×DLI気化器を搭載可能。 また、マスフローコントローラーは最大8、ターボポンプ搭載可能です。 ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。 【特長】 ■最大50mm径基板対応 ■最大成膜温度：1100℃(ランプ加熱方式) ■最大6x DLI気化器を搭載可能 ■マスフローコントローラー：最大8 ■クオーツ製チューブ型チャンバー ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
優れた膜厚分布および再現性を実現！マルチチャンバ仕様や各種オーダーメイドも製作可能
当社が取り扱う『CVD装置』をご紹介します。 2周波独立印可方式により、低応力、高硬度、高絶縁性を実現する 「酸化膜／窒化膜プラズマCVD装置」をはじめ、「DLCコーティング装置」 「カーボンナノチューブ合成装置」などをラインアップ。 マルチチャンバ仕様や各種オーダーメイドも製作可能です。 ご用命の際は、お気軽にお問い合わせください。 【酸化膜／窒化膜プラズマCVD装置 特長】 ■優れた膜厚分布および再現性を実現 ■特殊表面処理によるメタルコンタミ低減 ■広範な膜特性の制御可能 ■豊富な蓄積データ ■トレイ搬送にも対応可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
「金属容器用プラズマCVD装置」「ICP型MOCVD装置」などの実績を保有しています！
ジャパンクリエイト株式会社が行なった、『CVD装置』のオーダーメイド 製作実績をご紹介します。 「太陽電池用プラズマCVD装置」をはじめ、「立体物用プラズマCVD装置」や 「金属容器用プラズマCVD装置」「ICP型MOCVD装置」などの実績を保有。 デモ機にてサンプル処理を実施しております。 ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。 【製作実績（抜粋）】 ■太陽電池用プラズマCVD装置 ■立体物用プラズマCVD装置 ■研究開発用ロードロック式プラズマCVD装置 ■金属容器用プラズマCVD装置 ■医療容器用プラズマCVD装置 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
最大成膜温度は800℃！チャンバー加熱機構で最大4x DLI気化器を搭載可能
『MC-100/MC-200』は、スチールステンレス製チャンバーの DLI-CVD/DLI-ALD装置です。 最大200mm径基板対応、マスフローコントローラーは最大「MC-100」が8、 「MC-200」は6で、ターボポンプ搭載可能となっております。 ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。 【特長】 ■最大200mm径基板対応 ■最大成膜温度：800℃ ■最大4x DLI気化器を搭載可能 ■マスフローコントローラー：最大 8 ■スチールステンレス製チャンバー ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
CVD装置
●特徴 本装置はCVD法を用いた薄膜作製装置であり、原料ガス状物質（気体、液体、固体）としてCVD反応室に供給し、気相または基板材料表面において化学反応を起こさせ、所望の薄膜材料を基板上に堆積させる気相反応、表面反応を利用した薄膜作製装置です。原料ガス状物質を化学的に活性させる（励起状態にする）手法として、熱、プラズマ、光（レーザー、紫外線など）があり、各々熱CVD、プラズマCVD、光CVD装置などがございます。
3種類の堆積装置をラインアップ！用途に合わせてお選びください
株式会社片桐エンジニアリングが取り扱う、『ナノカーボン堆積装置』を ご紹介いたします。 当製品は、ナノカーボン材料を合成可能なCVD装置です。 「CND-050LP」をはじめ、大面積ナノカーボン堆積装置「LCND-200」や PNナノカーボン堆積装置「NCD-050W」をラインアップ。 用途に合わせてお選びいただけます。 【特長】 ■ナノカーボン材料を合成可能 ■3種類のラインアップ ■用途に合わせて選べる ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
