PECプロセス装置

シンプル構造で低価格を実現！GaNウェハ低ダメージエッチング装置をご紹介

当社が取り扱う『PECプロセス装置』をご紹介します。光源・波長はUVA、UVCから選択でき、エッチング溶液加熱により高速な深堀エッチングが可能。タッチパネル入力でエッチングリンスをパラメータ設定できます。ご用命の際は、お気軽にお問い合わせください。【特長】 ■10mm□小片チップからφ6インチウェハ ■GaN 低ダメージエッチングが可能 ■シンプル構造で低価格を実現 ■高速な深堀エッチング可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。