PLD装置『Pioneer 120 PLD System』
多用途の薄膜形成が可能！導電ヒーターにより950℃まで基板を加熱
『Pioneer 120 PLD System』は、PLD(パルスレーザー堆積法)装置です。 標準的な装置で基板サイズが直径1inchと2inch対応で、 導電ヒーターにより950℃まで基板を加熱することが可能。 また、パルスレーザー(＜20nsのパルス幅)により素早く目的の物質を蒸発させ、 その組成を維持したまま薄膜の形成が可能です。 【特長】 ■PLD(Pulsed Laser Deposition) ・パルスレーザー堆積法により多用途の薄膜を形成することが可能 ■パルスレーザー(＜20nsのパルス幅) ・素早く目的の物質を蒸発させ、 その組成を維持したまま薄膜の形成が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社ハイテック・システムズ
- 価格：応相談
