成膜装置 複合型ＰＬＤ装置
民間の研究所から国営研究施設まで、幅広く対応！半導体・液晶・プラズマディスプレイ・光ディスクなどの薄膜製造工程に活用できます。
70台以上の販売実績を誇る多目的ＰＬＤ装置です。豊富な実績に基づいた設計により安定した動作が可能で、他のスパッタ源や蒸着源を組み合わせることも可能です。
- 企業：バキュームプロダクツ株式会社
- 価格：応相談
PLD装置 - メーカー・企業と製品の一覧
PLD装置の製品一覧
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PLD装置『Pioneer 120 PLD System』
多用途の薄膜形成が可能！導電ヒーターにより950℃まで基板を加熱
『Pioneer 120 PLD System』は、PLD(パルスレーザー堆積法)装置です。 標準的な装置で基板サイズが直径1inchと2inch対応で、 導電ヒーターにより950℃まで基板を加熱することが可能。 また、パルスレーザー(＜20nsのパルス幅)により素早く目的の物質を蒸発させ、 その組成を維持したまま薄膜の形成が可能です。 【特長】 ■PLD(Pulsed Laser Deposition) ・パルスレーザー堆積法により多用途の薄膜を形成することが可能 ■パルスレーザー(＜20nsのパルス幅) ・素早く目的の物質を蒸発させ、 その組成を維持したまま薄膜の形成が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社ハイテック・システムズ
- 価格：応相談
