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試料にダメージを与えず高度な洗浄を可能にした、卓上型UV照射装置
大型基板の処理にも対応。試料にダメージを与えず 高度な洗浄を可能にした、卓上型UV照射装置 【特徴】 ○最大φ300mmのシリコンウエハ、ガラスなどの基板（試料）にUV照射を行い 表面の有機物を除去し、濡れ性を向上させることが可能 ○基板（試料）ホルダーの上下、または取替えが容易なため 厚みのある基板（試料)を処理することが可能 ○オゾン発生型装置は、オゾンによる処理を併用することにより 高いクリーニング効果を得られる ○基板（試料）セット後の処理は自動運転が可能です ○卓上型ながら大型基板の処理が出来、表面改質やウエ ハ洗浄等の処理プロセスの開発に最適 ○ウエット洗浄とは異なり廃液を出さず、試料に物理 的ダメージを与える事なく高度な洗浄効果が得られる ○有機汚染物質はガス化して排気される為 有機汚染物質の再付着が起こらない ●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。
エキシマ光で効率よく表面洗浄、改質！
高光子エネルギー真空紫外光源のエキシマランプによって有機物洗浄、表面改質を低温で行うことができます。 フラットタイプは面自体が発光する高出力、高密度高分布モデルです。
高照度172nmエキシマランプ 管面照度150mW/cm²以上
【特徴】 ・高照度ＲＦ放電方式による高照度、高い均一性 ・照射面に電極や石英窓がない、ランプ管面直接照射 ・真空環境内でもエキシマランプの点灯可 ・独自のスリッドホルダにより、窒素使用量の大幅削減 ・ランプ毎に照度調整が可能 ・ランプ有効長：MAX G10サイズまで 【無電極照射ユニット・N2スリッドホルダー構造】 ランプ構造は照射面側に電極を持たない構造の為、光の遮りがなく、透過や反射損失もほとんどなく効率が高い。個々のランプホルダーよりランプ管壁に沿って窒素（CDA）を噴出。効率よくオゾンを生成し少量で均一に酸素濃度の制御が可能 【主な用途】 ・ガラス、フィルム、ウエハの洗浄表面改質 ・フィルム、ガラス、樹脂、金属等の貼り合わせ ・HDD洗浄、改質、潤滑油硬化 ・レジスト除去、アッシング ・チップ、フィルム、基板接合面洗浄 【装置導入事例】 ・G8サイズTFT基板成膜前洗浄装置 ・ロールtoロール洗浄装置 ・レジストアッシング装置
使いやすい100V電源仕様と排気ダクト無しでOKのオゾンレスランプを採用したUV照射装置
『SUV-400C』は、カラーチェッカーで展色用紙にベタ刷りしたUVインキに 紫外線を照射して、UVインキを硬化させる卓上型UV照射装置です。 速度可変コンベアで硬化時間を調整可能。ランプの点灯時間短縮で従前より 節電できます。 また、オゾンレスランプの使用により、排気ダクト工事が不要になります。 【特長】 ■コンパクトな卓上型 ■オゾンレスランプの使用で排気ダクト工事が不要(室内換気は必要) ■速度可変コンベアで硬化時間調整可能 ■ランプの点灯時間短縮で従前より節電できる ■UVランプ交換時期の目安となる動作時間カウンター付き ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
