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両面露光対応機などUV露光装置を豊富にラインアップ！R&Dから量産まで対応
『UV露光装置』は、マニュアルからセミ/フルオートマチック、両面露光 対応機まで取り揃えています。 豊富な製品ラインアップでR&D～量産まで対応可能。 半導体デバイスやMEMSデバイス、マイクロ流体チップなど様々な用途に 使用されています。 UVライトソースのみの販売も行っています。 【ラインアップ】 ■コンタクトマスクアライナ:Model 200 ■両面露光対応マスクアライナー:Model 800MBA ■両面露光対応マスクアライナー:Model 6000 ■UVライトソース:Series30 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
平行度を保証した高強度露光装置
超高圧水銀ランプ2kWを使用した露光装置です。 専用PCソフトウェアから制御可能で、マスクの平面出しやガラスとのギャップ調整も可能です。
超高圧水銀ランプを光源に使用した簡易的な露光装置です
『UVL-3』は、卓上型のUV露光器です。 主にガラス基板等を使用するフォトリソグラフィ工程において、 露光焼付けを手軽に行うことが可能。 カラー液晶と十字キーを装備し 照射時間を正確にコントロールします。 【特長】 ■フォトリソグラフィ工程における簡易露光焼付装置 ■卓上型・一体型のため省スペース ■マイコン搭載により、照射時間を正確に制御 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
