XYステージのメーカーや取扱い企業、製品情報、参考価格、ランキングをまとめています。
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XYステージ(顕微鏡) - メーカー・企業と製品の一覧

XYステージの製品一覧

16~30 件を表示 / 全 41 件

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サブミクロンフィードバックステージ FS-1050X/XY

【精密位置決め装置】高分解能・高い位置決め再現性・位置決め後の位置保持性が高い位置決めステージ!

光学式リニアエンコーダをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 『 50nm 』又は『 100nm 』分解能(*1)でストロークは『 50mm 』となっております。 自社開発リニアエンコーダと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-411又はFC-111との組み合わせ

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5nmフィードバックステージ FS-1040SPX/XY

【精密位置決め装置】リニアエンコーダを内蔵し、5nm分解能で動作する位置決めステージ

光学式リニアスケールをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 『 5nm 』分解能(*1)でストロークは『 40mm 』となっております。 自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路によりフルクローズドループ制御を行っているため、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-611との組み合わせ

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5nmフィードバックステージ FS-1050SPX/XY

【精密位置決め装置】5nmの高分解能・高い位置決め再現性・位置決め後の位置保持性が高い位置決めステージ!

光学式リニアスケールをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 『 5nm 』分解能(*1)でストロークは『 50mm 』となっております。 自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-611との組み合わせ

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1nmフィードバックステージ FS-1020SPX(MD)/XY

【精密位置決め装置】1nmの高分解能・高い位置決め再現性・位置決め後の位置保持性が高い位置決めステージ!

光学式リニアスケールをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 『 1nm 』分解能(*1)でストロークは『 20mm 』となっております。 自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。 高トルクタイプはFS-1020SPX(MD) 高速度タイプはFS-1020UPX となっております。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-911との組み合わせ

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1nmフィードバックステージ FS-1040SPX(MD)/XY

【精密位置決め装置】1nmの高分解能・高い位置決め再現性・位置決め後の位置保持性が高い位置決めステージ!

光学式リニアスケールをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 『 1nm 』分解能(*1)でストロークは『 40mm 』となっております。 自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。 高トルクタイプはFS-1040SPX(MD) 高速度タイプはFS-1040UPX となっております。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-911との組み合わせ

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10nmフィードバックステージ FS-3200X/XY

【精密位置決め装置】高分解能・高い位置決め再現性・位置決め後の位置保持性が高い位置決めステージ!

光学式リニアスケールをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 『 10nm 』分解能(*1)でストロークは『 200mm 』となっております。 自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。 スローダウンセンサを搭載しており、ストロークエンドでの停止時の衝撃を小さくできます。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-514との組み合わせ

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真空対応5nmフィードバックステージ 50mm動作

真空中で使える 5nm分解能・高再現性・高保持性を持った高性能位置決めステージ

アウトガス対策を施した真空対応フィードバックステージです。 真空チャンバーにそのまま導入可能です。 自社開発したリニアスケールを内蔵しているため、薄型で軽量な設計、フルクローズドループ制御による高精度な繰り返し位置決め性能を持っています。 50mmストロークを5nm分解能で動作させることができます。

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真空対応5nmフィードバックステージ 40mm動作

真空中で使える 5nm分解能で40mm動作の高性能位置決めステージ

アウトガス対策を施した真空対応フィードバックステージです。 真空チャンバーにそのまま導入可能です。 自社開発したリニアスケールを内蔵しているため、フルクローズドループ制御による高精度な繰り返し位置決め性能を持っています。 40mmストロークを5nm分解能で動作させることができます。

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真空対応10nmフィードバックステージ 40mm動作

【真空対応】40mmの範囲を10nm分解能で動作する高性能位置決めステージ

アウトガス対策を施した真空対応フィードバックステージです。 真空チャンバーにそのまま導入可能です。 ステージ内蔵の光学式リニアエンコーダの位置情報によるフルクローズドループ制御を行っているため、高精度な繰り返し位置決め性能を持っています。 40mmストロークを10nm分解能で動作させることができます。

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1nmフィードバックステージ FS-1050SPX(MD)/XY

【精密位置決め装置】1nmの高分解能・高い位置決め再現性・位置決め後の位置保持性が高い位置決めステージ!

光学式リニアスケールをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 『 1nm 』分解能(*1)でストロークは『 50mm 』となっております。 自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。 高トルクタイプはFS-1050SPX(MD) 高速度タイプはFS-1050UPX となっております。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-911との組み合わせ

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真空対応10nmフィードバックステージ 20mm動作

【真空中で使用可能】10nm分解能で動作するリニアエンコーダ内蔵の高性能位置決めステージ

アウトガス対策を施した真空対応フィードバックステージです。 真空チャンバーにそのまま導入可能です。 光学式リニアエンコーダを内蔵しており、エンコーダで検出した位置情報をもとにフルクローズドループ制御を行っているため、高精度な繰り返し位置決め性能を持っています。 20mmストロークを10nm分解能で位置決めができます。

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1nmフィードバックステージシステム(精密位置決め装置)

リニアエンコーダ内蔵により1nm分解能で位置決め 可動範囲最大50mm

光学式リニアエンコーダに対して、1nm分解能と±2nmの再現性を実現した超精密位置決め装置(フィードバックステージシステム)。 ピエゾを利用した位置決め装置と比較し、 『安価』『簡単制御』『大きなストロークがとれる』ため、 幅広い用途で利用されています。 ストロークは『 20mm 』『 40mm 』『 50mm 』までラインアップ。 位置決めでお悩みでしたら、是非お問い合わせください。 ■詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。

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5nmフィードバックステージシステム(精密位置決め装置)

5nm分解能で位置決め!再現性に優れ、可動距離がミリオーダー

■高分解能、再現性 コントローラ内蔵のモータードライバーにより5nm分解能でステージを動作させ、 ステージ内蔵の光学式リニアエンコーダで位置を読み取りフィードバック制御しているため、 高分解能で再現性に優れています。 ■長ストローク ボールねじ駆動のため最大50mmの可動ができます。 これにより精密位置決めと試料の退避が1台のステージで可能です。 ■制御 コントローラには通信インターフェースがいくつか用意されており、 コマンド文字列をPC等から入力することでステージを制御することができます。

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真空対応10nmフィードバックステージ 100mm動作

【10nm分解能】真空中で使用可能なリニアエンコーダ内蔵のロングステージ

アウトガス対策を施した真空対応フィードバックステージです。 真空チャンバーにそのまま導入可能です。 光学式リニアエンコーダを内蔵しており、エンコーダで検出した位置情報をもとにフルクローズドループ制御を行っているため、高精度な繰り返し位置決め性能を持っています。 移動範囲100mmと長いため試料の移動と精密位置決めが1台で可能だったり、広範囲のデータ(スペクトル等)が必要な場合に有効です。

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真空対応10nmフィードバックステージ 昇降タイプ

【真空対応】リニアエンコーダ内蔵で10nm分解能のZ軸用位置決めステージ

光学式リニアエンコーダを搭載した高分解能Z軸用位置決めステージです。 10nm分解能でストロークは『 5mm 』又は『 10mm 』を用意。 アウトガス対策を施し、真空中で使用可能となっております。 テーブル面の傾きの変化を極力抑えた構成になっており、自社開発リニアエンコーダと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。

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