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サブミクロン分解能で位置決め！エンコーダ内蔵で再現性に優れ、20～400mmストロークのステージ
■高分解能、再現性 コントローラ内蔵のモータードライバーによりサブミクロン分解能でステージを動作させ、 ステージ内蔵の光学式リニアエンコーダで位置を読み取りフィードバック制御しているため、 高分解能で再現性に優れています。 ステージコントローラにより、100nm（0.1μm）か50nm（0.05μm）分解能で動作します。 ■長ストローク 最大400mmの可動ができます。 これにより精密位置決めと試料の退避が1台のステージで可能です。 ■制御 コントローラには通信インターフェースがいくつか用意されており、 コマンド文字列をPC等から入力することでステージを制御することができます。 ■可動タイプ 直動だけでなく昇降タイプや微小回転もラインナップしております。 詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。
真空チャンバー内での位置決め用途に リニアエンコーダ内蔵により10nm分解能で位置決め 可動範囲最大100mm
ステージ内蔵の光学式リニアエンコーダに対して、10nm分解能と±20nmの再現性を実現した精密位置決め装置（フィードバックステージシステム）。 真空度10^-4 Paまでの真空チャンバー内で使用できます。 ピエゾを利用した位置決め装置と比較し、 『安価』『簡単制御』『大きなストロークがとれる』ため、 幅広い用途で利用されています。 ストロークは20mm～100mmまでラインアップ。 位置決めでお悩みでしたら、是非お問い合わせください。 ■詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。
【精密位置決め装置】高分解能・高い位置決め再現性・位置決め後の位置保持性が高い位置決めステージ！
光学式リニアスケールをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 『 50nm 』または『 100nm 』分解能(*1)でストロークは『 200mm 』となっております。 自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。 スローダウンセンサを搭載しており、ストロークエンドでの停止時の衝撃を小さくできます。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-414またはFC-114との組み合わせ
真空中で使用可能！リニアエンコーダ内蔵でサブミクロン分解能のZ軸用位置決めステージ！
光学式リニアスケールを搭載した高分解能Z軸用位置決めステージです。 『 50nm 』(*1)又は『 100nm 』(*2)分解能でストロークは『 5mm 』又は『 10mm 』を達成しております。 アウトガス対策を施し、真空中で使用可能となっております。 独自の設計により、Z軸にありがちなテーブル面の傾きの変化を極力抑えた構成になっており、自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-411との組み合わせ (*2)フィードバックステージコントローラFC-111との組み合わせ
【真空中で使用可能】10nm分解能で動作するリニアエンコーダ内蔵の高性能位置決めステージ
アウトガス対策を施した真空対応フィードバックステージです。 真空チャンバーにそのまま導入可能です。 光学式リニアエンコーダを内蔵しており、エンコーダで検出した位置情報をもとにフルクローズドループ制御を行っているため、高精度な繰り返し位置決め性能を持っています。 20mmストロークを10nm分解能で位置決めができます。
【真空で使える】エンコーダ内蔵の高分解能位置決めステージ
内蔵の光学式リニアエンコーダでステージの位置を検出してフルクローズドループ制御を行っているため高分解能で位置再現性に優れています。 ステッピングモーターとボールねじを使用して駆動しているため 位置の保持性に優れています。 真空チャンバー内でアウトガスが発生しづらい部品などを使用しているため、真空チャンバー内にステージを配置することができます。 40mmの範囲を動作可能で「50nm」または「100nm」分解能で 制御することが可能です。（コントローラによって変わります）
【真空で使える】サブミクロン分解能のフィードバックステージ
内蔵の光学式リニアエンコーダでステージのテーブルの位置を検出して、コントローラに位置情報をフィードバックしているため高分解能で位置再現性に優れています。 ステッピングモーターとボールねじを使用して駆動しているため 位置の保持性に優れています。 アウトガス対策として潤滑材、線材やモーター等を真空対応品に変更しているため、真空チャンバー内で使用可能です。 20mmの範囲を動作可能で「50nm」または「100nm」分解能で 制御することが可能です。（コントローラによって変わります）
真空中で使用可能！回転方向調整用ステージ
光学式リニアエンコーダを内蔵しており、ステージの可動部分の位置を検出することができるため、その位置情報をもとにコントローラが降るクローズドループ制御を行うため位置の再現性に優れています。 分解能はコントローラによって「0.00005」または「0.0001」分解能で 動作させることができます。 アウトガス対策を施し、真空中で使用可能となっております。
リニアエンコーダでナノメートル分解能・高再現性・高保持性を実現！特注製作もOK
当社が設計・製造・販売を行っている、大気用高分解能位置決め装置および 真空対応高分解能位置決め装置(フィードバックステージシステム)の総合カタログです。 フィードバックステージ・フィードバックステージコントローラ、 ケーブル、オプションについての仕様・構成・価格などを網羅。 特注品・カスタム品の製作も承っております。お気軽にご相談ください。 【大気用システムの特徴】 リニアスケールを内蔵した小型位置決め装置を開発・製造・販売しております。 半導体関連の装置、通信関連、先端研究の光学系などで使用されています。 【真空対応システムの特徴】 創業以来、特注品の製作で得た真空対応に対するノウハウを元に 真空用途で高分解能及び高精度な再現性をご提供致します。 ※「PDFダウンロード」より総合カタログをご覧いただけます。 ご要望などお問い合わせフォームよりお気軽にご連絡ください。 また、下記リンクではカスタム品の製作例を紹介しております。
速度・送りモード切替えの操作性をさらに向上したジョイスティック！
オープン制御でありながら、他社リニアスケール付電動ステージと同等の位置再現性を実現。 速度・送りモード切替えの操作性をさらに向上したジョイスティックに加え、微細な移動を可能にするボタン式キーパッドも付属。 【特徴】 ○ステージ移動速度や単位表示を任意に変更可能 ○K規格ホルダ標準対応（各社インキュベータおよびサーモプレート対応） →「LCI製ChamlideLC、TCシリーズ」、 「東海ヒット製Stage Top Incubator、Thermo Plateシリーズ」等 ○NIKON製倒立顕微鏡に搭載可能 ○イメージングソフトに対応 →「MDJ製Metaシリーズソフトウェア（MetaMorph等）対応」、 「三谷商事製バイオイメージングソフトウェア LuminaVision対応」 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
位置ずれを防ぐ、高精度セルフロックステージ
電子部品製造においては、精密な位置決めが求められます。ミラック光学の「セルフロックステージ SLXシリーズ」は、特許取得のセルフロック機構を搭載することで高い位置決め精度を実現します。 【活用シーン】 - 精密部品の検査・測定 - 自動化ラインにおける位置決め - 高精度な加工工程 - 長時間固定が必要な用途 【導入の効果】 - 位置ずれによる製品不良の防止 - 作業効率の向上 - 精密な位置決めによる加工精度の向上 - 検査・測定の精度向上
真空チャンバー内での位置決め用途に リニアエンコーダ内蔵により5nm分解能で位置決め 可動範囲最大50mm
光学式リニアエンコーダに対して、5nm分解能と±10nmの再現性を実現した超高分解能位置決め装置（フィードバックステージシステム）。 真空度10^-4 Paまでの真空チャンバー内で使用できます。 ピエゾを利用した位置決め装置と比較し、 『安価』『簡単制御』『大きなストロークがとれる』ため、 幅広い用途で利用されています。 ストロークは『 20mm 』『 40mm 』『 50mm 』までラインアップ。 位置決めでお悩みでしたら、是非お問い合わせください。 ■詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。
真空チャンバー内での位置決め用途に サブミクロン分解能で位置決め 可動範囲最大100mm
ステージ内蔵の光学式リニアエンコーダに対して、サブミクロン分解能（0.1μm or 0.05μm）の再現性を実現した精密位置決め装置（フィードバックステージシステム）。 真空度10^-4 Paまでの真空チャンバー内で使用できます。 ピエゾを利用した位置決め装置と比較し、 『安価』『簡単制御』『大きなストロークがとれる』ため、 幅広い用途で利用されています。 ストロークは20mm～100mmまでラインアップ。 位置決めでお悩みでしたら、是非お問い合わせください。 ■詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。
【精密位置決め装置】高分解能・高い位置決め再現性・位置決め後の位置保持性が高い位置決めステージ！
光学式リニアスケールをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 『 10nm 』分解能(*1)でストロークは『 150mm 』となっております。 自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-511との組み合わせ
【精密位置決め装置】高分解能・高い位置決め再現性・位置決め後の位置保持性が高い位置決めステージ！
光学式リニアスケールをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 『 10nm 』分解能(*1)でストロークは『 200mm 』となっております。 自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。 スローダウンセンサを搭載しており、ストロークエンドでの停止時の衝撃を小さくできます。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-514との組み合わせ
