真空対応5nmフィードバックステージ 40mm動作
真空中で使える 5nm分解能で40mm動作の高性能位置決めステージ
アウトガス対策を施した真空対応フィードバックステージです。 真空チャンバーにそのまま導入可能です。 自社開発したリニアスケールを内蔵しているため、フルクローズドループ制御による高精度な繰り返し位置決め性能を持っています。 40mmストロークを5nm分解能で動作させることができます。
- 企業：シグマ光機株式会社
- 価格：応相談
XYステージ×シグマ光機株式会社 - メーカー・企業と製品の一覧
XYステージの製品一覧
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真空対応10nmフィードバックステージ 40mm動作
【真空対応】40mmの範囲を10nm分解能で動作する高性能位置決めステージ
アウトガス対策を施した真空対応フィードバックステージです。 真空チャンバーにそのまま導入可能です。 ステージ内蔵の光学式リニアエンコーダの位置情報によるフルクローズドループ制御を行っているため、高精度な繰り返し位置決め性能を持っています。 40mmストロークを10nm分解能で動作させることができます。
- 企業：シグマ光機株式会社
- 価格：応相談
真空対応10nmフィードバックステージ 100mm動作
【10nm分解能】真空中で使用可能なリニアエンコーダ内蔵のロングステージ
アウトガス対策を施した真空対応フィードバックステージです。 真空チャンバーにそのまま導入可能です。 光学式リニアエンコーダを内蔵しており、エンコーダで検出した位置情報をもとにフルクローズドループ制御を行っているため、高精度な繰り返し位置決め性能を持っています。 移動範囲100mmと長いため試料の移動と精密位置決めが１台で可能だったり、広範囲のデータ（スペクトル等）が必要な場合に有効です。
- 企業：シグマ光機株式会社
- 価格：応相談
真空対応10nmフィードバックステージ 昇降タイプ
【真空対応】リニアエンコーダ内蔵で10nm分解能のZ軸用位置決めステージ
光学式リニアエンコーダを搭載した高分解能Z軸用位置決めステージです。 10nm分解能でストロークは『 5mm 』又は『 10mm 』を用意。 アウトガス対策を施し、真空中で使用可能となっております。 テーブル面の傾きの変化を極力抑えた構成になっており、自社開発リニアエンコーダと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。
- 企業：シグマ光機株式会社
- 価格：応相談
真空対応10nmフィードバックステージ 微小回転タイプ
【真空対応】最小分解能0.00001°で±4°動作できるエンコーダ内蔵の微小回転ステージ
光学式リニアエンコーダを搭載した高分解能微小回転ステージです。 0.00001°分解能でストロークは±4° アウトガス対策を施し、真空中で使用可能となっております。 回転方向の調整用に適しています。
- 企業：シグマ光機株式会社
- 価格：応相談
リニアエンコーダ内蔵 高分解能位置決め装置
【新型ステージコントローラ】とリニアエンコーダを内蔵した【フィードバックステージ】で高分解能に位置決めができる。
[新型フィードバックステージコントローラの特長] 従来品との互換性を残しつつ、 ・通信コマンド数の増加 ・ティーチング機能追加 ・USBインターフェース追加 ・パラメータ数増加 などの追加により。多機能になりフィードバックステージの状態把握や細かなパラメータを設定することができます。 [高分解能位置決め装置の特長] フィードバックステージと新型フィードバックステージコントローラで構成されています。 フィードバックステージ内蔵のリニアエンコーダで検出する位置情報をもとにフィードバック制御するため高分解能かつ高い再現性が得られます。 [導入メリット] ・高い位置決め再現性による作業効率の向上 ・高分解能動作による微調整が可能 ・長い可動範囲による、試料の移動と微調整が1つのフィードバックステージで可能 詳しくはお問い合わせまたはカタログをダウンロードください。 □ステージ選定に役立つQ&A集を下記のリンクから無料ダウンロードできます。□
- 企業：シグマ光機株式会社
- 価格：応相談
