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プロセスの異なる試料表裏の一致した位置にパターン露光。
試料裏面マスクアライメント露光装置 BAシリーズは、従来の露光装置では困難であった試料裏面からのアライメントを可能にするローコストなマスクアライメント装置です。通常の片面露光マスクアライナーとしても使用でき、各種MEMSや半導体素子の両面デバイス開発を支援します。本装置では試料の第1面に予め形成されたアライメントマークに対して、その対面（第2面）の指定された位置にマスクパターンをアライメントして露光できます。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
プロセスの異なる試料表裏の一致した位置にパターン露光！ナノテックの露光装置
試料裏面マスクアライメント露光装置『BAシリーズ』は、 従来の露光装置では困難であった試料裏面からのアライメントを 可能にするローコストなマスクアライメント装置です。 本装置では試料の第1面に予め形成されたアライメントマークに対して、 その対面（第2面）の指定された位置にマスクパターンを アライメントして露光できます。 コンパクトなので通常の片面露光マスクアライナーとしても使用でき、 各種MEMSや半導体素子の両面デバイス開発を支援します。 【特長】 ■裏面観察専用の双対物2視野CCD顕微鏡搭載 ■対物レンズ間隔最小16mm ■小型試料のアライメントまで可能 ■裏面アライメントに最適化されたフリーズワイプ処理装置を装備 ■試料アクセスに便利なフロントスライド式高精度アライメントステージ 他 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
