プロセスの異なる試料表裏の一致した位置にパターン露光。
試料裏面マスクアライメント露光装置 BAシリーズは、従来の露光装置では困難であった試料裏面からのアライメントを可能にするローコストなマスクアライメント装置です。通常の片面露光マスクアライナーとしても使用でき、各種MEMSや半導体素子の両面デバイス開発を支援します。本装置では試料の第1面に予め形成されたアライメントマークに対して、その対面（第2面）の指定された位置にマスクパターンをアライメントして露光できます。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
この製品へのお問い合わせ
基本情報
【特徴】 ○裏面観察専用にデザインされた双対物2視野CCD顕微鏡を搭載 ○対物レンズ間隔最小16mmで小型試料のアライメントまで可能 ○裏面アライメントに最適化されたフリーズワイプ処理装置を装備 （画像メモリ） ○試料アクセスに便利なフロントスライド式高精度アライメントステージ ○コンパクトで通常の片面露光装置としても使用できる高い汎用性 【主な仕様】 ○アライメント形式 →マスクー試料裏面または表面観察によるビデオメモリアライメント ○露光方式：1．1（等倍）コンタクト露光 ○適応試料：サイズ最大 BA100φ4インチ BA160Φ6インチ ○適応マスク：サイズ最大 BA100□5インチ BA160□7インチ ○アライメントステージ：マスク固定・試料移動方式 ●詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
価格情報
お問い合わせ下さい。
納期
※お問い合わせ下さい。
用途／実績例
●詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
カタログ（1）
カタログをまとめてダウンロード
企業情報
MEMS マイクロマシン関連開発ツールのご用命は当社へ