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裏面アライメントがないので低価格、コンパクトを実現し、多品種少量生産に最適な装置を実現しました。
『AMA6000』は、自動一括等倍露光マスクアライメント装置です。 ASAPのマスクアライナーはマスクと完全非接触でウェハとのギャップ管理を行います。 非接触もできますが、ソフト、ハードコンタクトにも対応。 低価格、コンパクト、簡単操作を実現しました。 【特長】 ■完全非接触での平行出し&露光 ■省スペース&簡単メンテナンス ■オートアライメント ■低価格、コンパクトを実現し、多品種少量生産に好適 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
研究開発から、少LOT多品種、量産まで対応する「手動・半自動・全自動」のローコストな露光装置/マスクアライナーをご提案！
株式会社三明では、コンパクトな微細露光のスタンダード機「LAシリーズ片面マスクアライナー」や、 両面プロセスのローコストアシストモデル「BAシリーズ正面マスクアライナー」、両面・多面プロセスの スタンダード量産機である「BSシリーズ両面同時露光マスクアライナー」といった手動型の露光機をはじめ、 少ロット多品種から量産まで対応した半自動の「セミオートマスクアライナー」や全自動の「フルオートマスクアライナー」など、 優れたローコストな露光装置を多数取り揃えております。 ＊詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
MEMS開発ツール・精密アライメントのナノテック
『MEMS開発プロセス装置』では、コンパクトな微細露光のスタンダード機「片面マスクアライナー」や、両面プロセスのローコストアシストモデル「正面マスクアライナー」、両面・多面プロセスのスタンダード量産機「両面同時露光マスクアライナー」、自動化・量産化のカスタム対応装置「オートマスクアライナー」、専用露光装置「カスタムマスクアライナー」、カスタム設計対応の「アライメント固定装置」、独自のクランプ機構を用いた「精密アライメントホルダー」、精密転写装置で低残膜・低バブルの「UVナノインプリンター・マイクロコンタクトプリンター」、業界スタンダードの「汎用スプレーコーター」、オンリーワンのローコストマスク作製機「簡易マスク作製機」など多数掲載しています。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
ナノテックのMEMS開発ツール製品情報です。
『MEMS開発ツール』では、標準片面マスクアライナーや、試料裏面観察アライナーの「マスクアライナー」、UVナノインプリンター・マイクロコンタクトプリンターの「インプリント」、スプレーコーター「コーター」、オンリーワンのローコストマスク作製機「簡易マスク作製機」など多数掲載しています。陽極接合用アライメント装置、赤外線観察アライメント装置、各種張合わせアライメント装置の「仮止め装置」、真空接合装置「陽極接合装置」、簡易マスク作製機「MM605」など多数掲載しています。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
ESシリーズのローコスト片面アライナー
お客様の仕様やご予算にあわせて最適なマスクアライナーをビルドアップ。各種ユニットやオプションの中から必要なものだけを選択することで無駄なコストを抑えた使い易い装置が構成できます。ご要望を伺い、最適な仕様をご提案致します。 またほとんどのユニットが後から追加・交換できますので将来のグレードアップや初期導入コスト削減も可能です。2タイプのUV光源装置から選択できます。（露光サイズ各種）φ1～4インチ試料対応（角形試料等カスタム形状にも対応）し、□2～5インチマスク対応です。また、CCDカメラ、実体、接眼タイプ等各種観察顕微鏡から選択できます。コンパクトでローコストです。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
ローコストでフォトリソグラフイに必要十分な機能を持ったマスクアライナー
実験・研究用マスクアライナー ES410は、ローコストながらフォトリソグラフイに必要十分な機能を持ったマスクアライナーです。フルマニュアル機で各種実験、研究、フォトリソグラフイの学習などにご使用頂けます。ESシリーズならではの幅広いカスタマイズ性を備え、各種ユニットやオプションを選択することで、さらに目的にフィットした装置にセットアップ可能です。ほとんどのユニットが後から追加・変更できますので将来のグレードアップにも対応致します。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
コンパクト微細露光スタンダード機。4/6/8インチ標準マスクアライナー
高性能マスクアライナー LAシリーズは、4/6/8インチ標準マスクアライナーでコンパクトな微細露光のスタンダード機です。半導体素子デバイス等フォトリソグラフィーを必要とする研究分野において、微細度の高いパターン露光ができる露光装置です。専用にデザインされた双対物2視野CCD顕微鏡を搭載し、対物レンズ間隔最小18mmで小型試料のアライメントまで可能です。ワイプ装置による2視野一括モニター表示可能で、Z軸はエアー圧駆動＋ギャップ微調整レバー方式です。ハードコンタクトソフトコンタクト・プロキシミティー露光に対応。平行機構は信頼性の高い球面軸受を採用したコンパクトで高い汎用性です。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
プロセスの異なる試料表裏の一致した位置にパターン露光。
試料裏面マスクアライメント露光装置 BAシリーズは、従来の露光装置では困難であった試料裏面からのアライメントを可能にするローコストなマスクアライメント装置です。通常の片面露光マスクアライナーとしても使用でき、各種MEMSや半導体素子の両面デバイス開発を支援します。本装置では試料の第1面に予め形成されたアライメントマークに対して、その対面（第2面）の指定された位置にマスクパターンをアライメントして露光できます。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
ウェハ表裏同時露光。セミオート動作で中ロット生産に対応！
両面同時露光マスクアライナー BS320は、研究開発から小中ロット製造用として多くの出荷実績がある両面同時露光式マスクアライナーです。一次露光は両面同時、二次露光以降は片面づつ露光する方法を採用するため、シンプルで応用が利くモデルです。各種ニーズに合わせたカスタマイズも承ります。二次露光以降は片面露光となりますので別途「試料台」が必要になります。二次露光以降も両面同時露光可能なBS320uもラインアップしています。セミオート動作で中ロット生産に対応しています。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
ウェハ表裏同時露光！セミオート動作で中ロット生産に対応
両面同時露光マスクアライナー『BS425』『BS620』は、研究開発から小中ロット製造用として多くの出荷実績がある両面同時露光式マスクアライナーです。 一次露光は両面同時、二次露光以降は片面づつ露光する方法を採用するため、シンプルで応用が利き、ニーズに合わせたカスタマイズも承ります。 二次露光以降は片面露光となるので別途「試料台」が必要です。 お気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■最大φ4インチウェハ対応『BS425』 ■最大φ6インチウェハ対応『BS620』 ■コンパクト設計 ■1次露光時はフットスイッチによりセミオート運転が可能 ■手置き式のため規格外形状試料への対応が容易 ■ウェハ位置決めガイド搭載（オプション） 他 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
両面アライメントと、プロキシミティおよびソフトコンタクト露光が可能
ウェハ、ガラス基板などのフォトリソ工程において、ガラスマスクとワークをアライメントし、板上にコーティングされたフォトレジストに、微細なマスクパターンを転写するマスクアライナーです。
制御方式は、RS232C及びパラレルフォトI/Oです。
100mm～200mm対応光学式アライナ SAL4484シリーズは、半導体製造装置内、検査装置等のウェーハの位置決めを必要とする搬送に対応しております。シリコンウェーハのセンタリングとオリフラ・ノッチを高速、高精度に位置決めします。制御方式は、RS232C及びパラレルフォトI/Oです。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
小径ウェーハ対応で省フットプリント化を実現しました。
50mm～100mm対応アライナ SAL2241シリーズは、半導体製造装置内、検査装置等のウェーハの位置決めを必要とする搬送に対応しております。小径ウェーハ対応で省フットプリント化を実現しました。小径ウェーハのセンタリングとオリフラ・ノッチを高速、高精度に位置決めします。スピンドル側に0.1μmのフィルターを装備しています。制御方式はRS232C及びパラレルフォトI/Oです。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
2インチ,3インチ,100～150mmウェーハのアライメントが可能です
光学式アライナ SAL3261GRシリーズは、半導体製造装置内、検査装置等のウェーハの位置決めを必要とする搬送に対応しております。2インチ,3インチ,100～150mmウェーハのアライメントが可能です。ウェーハ端面を検出するタイプのセンサを搭載し、シリコン、透明、半透明ガラス、ガリ砒素、サファイヤウェーハ等のアライメントが可能です。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
真空環境下におけるサセプタをグリップ方式で高速、高精度に位置決めが可能
342mmサセプタ対応真空アライナ SVAL30D1シリーズは、真空環境下におけるサセプタ（化合物半導体、シリコンウエハ等）をグリップ方式で高速、高精度に位置決めを可能にしました。位置決め用センサを真空環境下に配置することで、本気単体のみの設置だけで完了し、装置設計の自由度もUPします。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
【300mmウエハ用】ウエハ裏面に接触しないエッジグリップタイプのアライナ
■３本爪可動によるエッジグリップ方式で高精度なセンタリング ■オプションのバッファポートにより、アライメント中のロボット待ち時間を最小化 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
0.6umの微細描画が可能な高速マスクレスアライナー
マスクレスアライナー MLA150は、マスク不要の非接触レーザー露光装置です。卓越した使いやすさ、および高速性により、ラピッドプロトタイピング、少量から中量生産、および研究開発環境における理想的なレーザー直接描画方式の、マスクレス露光装置です。 2015年に初めてマスクレスアライナーシリーズが発表されて以来、革新的で最先端のマスクレステクノロジーが確立されました。MLA150は従来のマスクアライナーに代わる製品として位置づけられており、出荷台数は130台を超えています。
テーブルトップサイズのオートフォーカス付きマスクレスアライナー
テーブルトップシステムのマスクレスアライナー µMLAは、最先端のマスクレステクノロジーを特徴としており、微細構造を必要とする全ての研究開発領域に適したエントリーレベルの描画装置です。典型的な用途は、マイクロフルイディクス、マイクロオプティクス、センサー、MEMS、および材料科学です。 µMLA（マイクロ・エム・エル・エー）はこれまでの卓上型直描装置よりも経済的でカスタマイズ可能な柔軟性に優れた最新式のマスクレス露光装置です。
プロダクション向け高性能マスクレスアライナー
MLA300は、研究開発アプリケーション、ラピッドプロトタイピング、および少量から中量生産の領域では既に標準となっているマスクレスアライナーの工業生産バージョンです。MLA300は、生産工場で期待される高スループットと高可用性を維持しながら、2 µmのラインアンドスペースの高解像度を実現します。 ワークフローを簡素化するための自動化に対応するために、ウェーハロボットとロードポート、および生産環境用に特別に設計されたソフトウェアを備えています。
最大4インチ角基板対応 手動露光機
ズースマイクロテックMJB4は最大4インチ角基板まで対応可能な手動式マスクアライナ(露光装置)です。 シンプルな操作性、高精度アライメント、高い露光解像性が特徴です。 研究開発用途以外に少量生産用途でもご使用頂けます。
光ファイバ結合効率98%達成！東京大学古澤明研究室コラボレートモデル
『FA1000S_θ』は、自由空間伝播のレーザビームを非球面レンズを通した後に光ファイバに結合させるためのデバイスで、東京大学古澤明研究室の 全面的なご協力の基に開発されたファイバアライナです。 2軸のθ調整機構を持ち、特殊加工技術により光ファイバの入射ポイントを球体の中心から動かすことなく直交する2方向の回転軸を独立に調整することが可能です(球体ジンバル機構)。この新機構により従来非常に困難であったアライメントが簡単に行えるようになり、長期間の安定性も保てるようになりました。 【θ軸調整機構の特長】 ■球体ジンバル機構（特許取得済み 第5888775号） ・特殊加工技術により球体回転素子の中心にファイバの入射ポイントが一致する構造 ・角度調整を行っても入射ポイントはほとんど位置ズレを起こさない ■高い操作性と長期安定性を実現 ・調整ネジはバックラッシの非常に少ない0.15mmのファインピッチネジを使用 ・調整後に高い保持力を得られる当社独自のソフトロック機構を採用 ※詳しくはPDF（英語版）をダウンロードして頂くか、お問い合わせください。
2相ステッピングモータを使用！5、6、8インチシリコンウェハ対応アライナー
『AA2568』は、5、6、8インチウェハ対応アライナーです。 ウェハセンタリングはポリアセタール樹脂製クランプでウェハ外周を把持。 スピンドルで吸着、光センサによる位置決めが可能です。 2相ステッピングモータを使用しています。 【特長】 ■ウェハセンタリング：ポリアセタール樹脂製クランプでウェハ外周を把持 ■ノッチ位置決め スピンドルで吸着、光センサによる位置決め ■コンパクト、クリーンなボディで清浄度アップ ■RS232C通信制御またはI/O制御 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
極単純構造で製造コストを削減！4インチウェハ対応エッジグリップ仕様アライナー
『GA2400』は、PEEK樹脂製クランプでウェハ外周を把持する エッジグリップ仕様アライナーです。 ウェハ外周を把持し、光センサによる位置決めが可能。 極単純構造にすることにより、製造コストを大幅に削減できます。 また、2相ステッピングモータを使用しています。 【特長】 ■ウェハセンタリング：PEEK樹脂製クランプでウェハ外周を把持 ■ノッチ位置決め ウェハ外周を把持し、光センサによる位置決め ■2相ステッピングモータ使用 ■RS232C通信制御 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
弊社独自の多層膜蒸着マルチミラーランプハウス搭載機
■マルチミラーランプハウス採用により均一性の高い照度分布。 ■各種自動機構部採用により操作性が向上したセミオートでの使用も可能。 ■アライメント顕微鏡は三眼鏡筒を採用。モニターでのアライメントも可能(オプション)。
本レポートは着脱式透明アライナー市場の中長期的な成長動向を定量分析および定性分析の両面から体系的に整理しています。
当資料では、着脱式透明アライナーの世界総市場規模について、 ご説明しております。 着脱式透明アライナーの概要をはじめ、製品タイプ別分析、用途別分析、 企業別分析、地域別分析、技術革新と市場の未来展望などについて解説。 当社は、東京を拠点に世界各地の産業情報を統合し、企業の意思決定を 支援するレポートを提供しています。 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
高速・高精度・高剛性・高効率、そして省スペースを実現！ 2-12インチ対応の【HIWINウエハアライナー】
HPAシリーズは3軸制御のウエハアライナーで、 全てに当社製単軸ロボットモジュールを採用。 高速、高精度、高剛性、高効率、小型化を実現します。 オールインワン設計の内蔵型コントローラーにより、外部コントローラーや配線スペースが不要で、同等仕様で業界最小サイズです。 透明・半透明・不透明物体の輪郭検出が可能なスマート光透過型レーザーセンサーを搭載。 ウエハやガラスなど、 2～12インチまでのワークに対応可能です。
光源を水銀ランプからLEDへ置き換えた露光装置です。 自動平行調整、完全非接触ギャップ管理、オートアライメント機能搭載です。
当製品は、UV-LED光源搭載の自動一括等倍露光装置（マスクアライナー）です。 弊社の特徴として、フォトマスクとウエハを完全非接触でステージとマスクの自動平行調整が行えます。 超精密UVW駆動ステージを搭載し高性能画像処理を行う事で フォトマスクとウエハのアライメントも正確に行います。 露光方式としてプロキシミティ、ソフト、ハードコンタクトにも対応。 マニュアル機～フルオート機まで生産量に合わせたラインアップで、 設計から製造・販売まで自社で行っているので、低価格を実現しました。 【特長】 ■i線（365nm)、H線（405nm)に対応！（g線はご相談ください） ■完全非接触でフォトマスクとウエハの平行出し&露光 ■オートアライメント機能 ■段取り替えが容易で、複数基板サイズ対応可能 ■省スペース&簡単メンテナンス ■低価格、コンパクトを実現し、多品種少量生産にも好適 ■超精密UVWステージ搭載 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
露光光源照度分布は±5％以内！デスクトップ型と自立型のモデルをラインアップ
『BA100/160/200』は、上下両面に高位置精度パターニングするマニュアル型の両面マスクアライナーです。 デスクトップ型でウェハサイズ4inの「BA100」と6inの「BA160」に加え、 自立型でウェハサイズ8inの「BA200」をラインアップ。 また、アライメント精度はTop-sideにて±2μm、Bottom-sideにて±5μm としております。 【仕様（抜粋）】 ■ウェハサイズ：4in/6in/8in ■露光光源照度分布：±5％以内 ■露光解像度 ・ソフトコンタクト：L/S 3μm ・ハードコンタクト：L/S 1μm ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
![レーザー式ベルトアライナー [Z5A Belt-Aligner]](https://image.mono.ipros.com/public/product/image/8e9/2001418677/IPROS16636890750032025935.jpg?w=280&h=280)
レーザー式ベルト軌道調整ツール
Z5A Belt-Aligner（ベルトアライナー）は、駆動輪の位置調整ツールとして数多くの実績がある位置合わせ用ラインレーザーです。 電池駆動のラインレーザーZATシリーズをベースに、専用に設計された取付けブラケットにすっきりと確実に収まっています。 赤色のレーザーラインは磁気接触面に対して正確に平行に放射されます。 ターゲットマーカーが備わっているので、駆動輪とインペラ（羽根車）をアイドル状態で安全に位置合わせすることができます。 [特長] 単3乾電池または充電式電池駆動 便利なON/OFFボタン 正確に校正された赤色ライン 出力パワー5mW 吸着力100Nの強力な磁気マウント 保護等級IP40
セミカスタムで最適なシステム構成にできます
汎用マスクアライナーES20シリーズ以外にウェハ両面同時露光タイプや裏面観察式マスクアライナーなど各種ラインアップしております。 フォトリソグラフィ関連装置およびMEMS研究開発支援装置など、お客様の仕様に合わせたカスタム装置開発製作も承っております。
