弊社独自の多層膜蒸着マルチミラーランプハウス搭載機
■マルチミラーランプハウス採用により均一性の高い照度分布。 ■各種自動機構部採用により操作性が向上したセミオートでの使用も可能。 ■アライメント顕微鏡は三眼鏡筒を採用。モニターでのアライメントも可能(オプション)。
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基本情報
＜標準仕様＞ 【最大対応基板サイズ】φ4インチ 【最大対応基板厚】2mm 【最大対応マスクサイズ】5×5インチ 【UVランプハウス】マルチミラータイプ 【照射強度】＞14mW/cm2(at405nm) 【照度均一性】＜±4.0％ 【露光光源】UVランプ500W 【露光波長】ブロードバンド(g・h・i線) 【露光用タイマー】切り換え方式 タイマーセット式0～999.9秒/積算光量カウンター式1～9999カウント 【UVランプ劣化補正機能】標準装備 【アライメントスコープ】二視野顕微鏡 対物レンズ間隔18～60mm 【顕微鏡解像度】1.2μm(対物レンズ20×使用時) 【アライメントギャップ測長機能標準装備 【コンタクト方式】ソフトコンタクト/ハードコンタクト 【マニプレーター移動範囲】X・Y±5mm微動1/8mm1回転 θ:70°微動±7° Z:4mm(空圧駆動分1mm/粗動3mm)微動0.16mm 【十字動ステージ移動範囲】X・Y±20mm 【除振台】標準装備
価格情報
仕様により異なってまいります。まずはお問い合わせ下さい。
価格帯
1000万円 ~ 5000万円
納期
※標準仕様でご下命後2～3ヶ月です。
用途／実績例
半導体デバイス、各種センサーなど、半導体製造の前工程や新しいデバイスの開発や試作段階で使用されている研究・開発向けアライメント顕微鏡付露光装置です。小規模または中規模の製造、特定のデバイスを生産する際でも採用いただいております。 主に官公庁・大学(理工学系学部)、素材・材料メーカーの研究施設等を保有する民間企業への納入実績がございます。
詳細情報
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【使用機種】MA-20 【線幅】1μm(L＆S) 【レジスト】OFPR-800LB(東京応化製) 【膜厚】1μm
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【使用機種】MA-20 【線幅】8μm(角ホール) 【レジスト】e-PR THICK(e-chem japan製) 【膜厚】6.3μm
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【使用機種】MA-60F 【線幅】2μm(L＆S) 【レジスト】OFPR-800LB(東京応化製) 【膜厚】1μm
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【使用機種】MA-60F 【線幅】6μm(角ホール) 【レジスト】e-PR THICK(e-chem japan製) 【膜厚】6.2μm
ラインアップ（5）
| 型番 | 概要 |
|---|---|
| マスクアライナーMA-20 | |
| マスクアライナーMA-10B | |
| マスクアライナーMA-60F | |
| マスクアライナーM-1S | |
| マスクライナーM-2LF |
カタログ（5）
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企業情報
レジスト塗布、露光、現像、エッチングなど、半導体製造の前工程に必要な装置をすべて取り揃え、ワンストップで提供しています。また、スピンコーターは全機種代替機をご用意し、故障時にもすばやく対応するなど、販売後のアフターサポートも万全。更に研究の際に発生する様々な問題に対しても、現場に伺いアドバイスを行っております。どの工程に問題があるのか、どう改善していけばよいのかを、お客様と一緒に考え、解決のヒントを導きだしていきます。単に、装置の販売する会社ではなく、半導体のことを相談できるコンサルタントとして、半導体製造プロセス全体をサポートしていきます。
