イオンプレーティング（コーティング）技術資料【加工実績付き】
【技術資料進呈中！】密着性の強い膜を作るのに最適なイオンプレーティング！いまなら技術資料無料進呈中です！
イオンプレーティング法とは、蒸発粒子をプラズマ中を通過させることで、プラスの電荷を帯びさせ、基板にマイナスの電荷を印加して蒸発粒子を引き付けて堆積させ膜を作成します。これにより蒸着法に比べより密着性の強い膜を作ることが出来ます。 【イオンプレーティングの特長】 ■密着力は真空蒸着より強い ■低温でも密着が得られる（極一部の膜種除く） ■成膜条件の多様性が得られる ■反応膜が可能 ■影への膜の付きまわりは真空蒸着より良い ■合金膜が可能 ※詳細は資料請求して頂くかダウンロードからPDFデータをご覧下さい。
- 企業：東邦化研株式会社
- 価格：応相談
