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イオンプレーティング装置×神港精機株式会社 - 企業1社の製品一覧

製品一覧

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アーク放電型高真空イオンプレーティング装置

精密工具専用小型装置から大型金型対応の大型量産タイプまで豊富なラインアップ!

『アーク放電型高真空イオンプレーティング装置』は、極めて緻密で平滑な 硬質膜を形成できるイオンプレーティング装置です。 独自方式によりアルゴンガスを不要とした高真空中での成膜を可能とし、 緻密で高い反応膜の形成を可能としました。 チタン系の膜の形成を主体としておりTiCやTiCNなどの高硬度の膜質と膜の 平滑さにより金型の表面処理に好適です。 自動車部品の金型の表面処理用途に豊富な実績を持っています。 システムは基板の大きさ・形状や処理用によって柔軟にカスタマイズ。 精密加工工具専用小型装置から大型金型対応の大型量産タイプまで 豊富なラインアップを揃えています。 【特長】 ■放電用ガスが不要 ■平滑な硬質膜が形成可能(成膜後の研摩が不要) ■金メッキ代替の装飾膜が形成可能(金色、グレー、ブラウン) ■金属表面処理・硬質膜以外にも実績あり  (電子部品用、金属膜、酸化物膜、対応可能) ※詳しくはPDF資料をダウンロードいただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • その他理化学機器

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アークフィラメント式イオンプレーティング装置 

緻密な酸化膜厚膜(~10μm)を高速形成。新開発イオン化機構搭載 CVD代替高密度イオンプレーティング装置

緻密で耐プラズマ性の高いイットリア膜やSiC膜を高速形成。 高密度プラズマによる反応性プロセスによりCVDより低温で溶射法より緻密な膜質を実現。 半導体関連部品にも応用可能なクリーンな成膜プロセスを実現。 PVD法のため装置のメンテナンスも容易で低コスト。 絶縁膜(酸化膜・炭化膜)を高速形成。緻密な厚膜を高速形成。従来型のイオンプレーティング法の弱点を克服。 新たな表面機能を生み出す用途創成型最新PVD装置

  • プラズマ表面処理装置
  • その他加工機械
  • 蒸着装置

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側面電極用イオンプレーティング装置(面実装小型部品対応)

小型電子部品(面実装タイプ)の側面電極形成をドライ化。PVD(イオンプレーティング装置)だから可能な小型部品対応の端面電極成膜。

面実装タイプの受動電子部品(抵抗器・コンデンサ)などの側面電極をドライプロセスで形成。 廃液処理不要なクリーンプロセス。部品の端面のみに強い密着力で電極被膜を形成。Sn、Ni等の金属膜をハイスループットで形成。(酸化膜形成にも対応) 実績豊富なハードと独自の成膜プロセスで小型電子部品の生産プロセスのドライ化・低コスト化、安定生産に貢献いたします。

  • 蒸着装置
  • プラズマ表面処理装置
  • その他加工機械

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