1～2 件を表示 ／ 全 2 件
優れた品質と性能を備えた、幅広いレーザ出力とエネルギーの選択肢をご用意！
当社で取り扱う『エキシマレーザ』の高エネルギーUVパルスを マイクロエレクトロニクス、ディスプレイ、理科学研究、メディカル、 薄膜加工にご活用いただけます。 試作品から大量生産まで、適切な出力レベルに対応。均一な大面積の フラットトップビームでサンプル表面を覆います。 また、低温薄膜加工により、レーザエネルギーを選択的に照射できます。 【特長】 ■大型フィールドサイズの加工 ■調整可能なUV出力 ■低温薄膜加工で、レーザエネルギーを選択的に照射可能 ■50年にわたるエキシマレーザの経験 ■幅広いレーザ出力とエネルギーの選択肢をご用意 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
元素/同位体分析を改善！高い信号対雑音比でより良いデータを取得します
当社の製品では、USPレーザで表面をテクスチャリングするか、分析方法に ナノ秒またはウルトラファーストレーザを使用します(例: LIBS、LA-ICP-MS)。 強靭で繊細な材料の表面はすべて、熱損傷なしにウルトラファーストレーザビーム またはUVエキシマレーザでパターン化可能。 193nmのエキシマレーザは、粒子サイズが小さく、信号強度が高く、固有の分別が 低くなっています。 【特長】 ■ナノ秒レーザフレアを使用して、高い信号対雑音比でより良いデータを取得 ■エキシマレーザまたはfsレーザ増幅器を使用して、固体サンプルの元素および 同位体組成を分析 ■レーザ誘起周期構造(LIPS)を含む究極の表面パターンを作成 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
