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XeF(キセノン・フッ素)351nmなどの発振波長があります！ヒカリの用語をご紹介
「エキシマレーザ」は、希ガスやハロゲンなどの混合ガスを 用いて発生されるレーザ(装置)です。 代表的な発振波長には、XeF(キセノン・フッ素)351nm、 XeCl(キセノン・塩素)308nm、KrF(クリプトン・フッ素)248nm、 ArF(アルゴン・フッ素)193nmがあります。 ご用命の際は、当社までお気軽にお問い合わせください。 【代表的な発振波長】 ■XeF(キセノン・フッ素)351nm ■XeCl(キセノン・塩素)308nm ■KrF(クリプトン・フッ素)248nm ■ArF(アルゴン・フッ素)193nm ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
ネオン、クリプトン、キセノンは各種照明やエキシマレーザー用途、クリプトンは断熱用複層ガラス・キセノンは医療用にも使用されます。
技術の高度化に伴い、レアガスに対するお客様のニーズも日々変化しております。岩谷グループでは高純度ガスから様々な比率の混合ガスまで、幅広いご要望にお応えいたします。 ●お客様に適した充填量および荷姿をご提案いたします。 ●ご指定の混合ガス、混合比率で生産いたします。 ●それぞれの容器にガス成績表を添付いたします。
眼科用エキシマレーザー硬化剤の世界市場：ダイオードレーザー、フェムト秒レーザー、エキシマレーザー、Nd：YAGレーザー、 ...
本調査レポート（Global Ophthalmic Excimer Laser Curer Market）は、眼科用エキシマレーザー硬化剤のグローバル市場の現状と今後5年間の展望について調査・分析しました。世界の眼科用エキシマレーザー硬化剤市場概要、主要企業の動向（売上、販売価格、市場シェア）、セグメント別市場規模、主要地域別市場規模、流通チャネル分析などの情報を収録しています。 眼科用エキシマレーザー硬化剤市場の種類別（By Type）のセグメントは、ダイオードレーザー、フェムト秒レーザー、エキシマレーザー、Nd：YAGレーザー、アルゴンレーザー、SLTレーザーを対象にしており、用途別（By Application）のセグメントは、病院、外来手術センター、眼科クリニックを対象にしています。地域別セグメントは、北米、アメリカ、ヨーロッパ、アジア太平洋、日本、中国、インド、韓国、東南アジア、南米、中東、アフリカなどに区分して、眼科用エキシマレーザー硬化剤の市場規模を算出しました。 主要企業の眼科用エキシマレーザー硬化剤市場シェア、製品・事業概要、販売実績なども掲載しています。
優れた品質と性能を備えた、幅広いレーザ出力とエネルギーの選択肢をご用意！
当社で取り扱う『エキシマレーザ』の高エネルギーUVパルスを マイクロエレクトロニクス、ディスプレイ、理科学研究、メディカル、 薄膜加工にご活用いただけます。 試作品から大量生産まで、適切な出力レベルに対応。均一な大面積の フラットトップビームでサンプル表面を覆います。 また、低温薄膜加工により、レーザエネルギーを選択的に照射できます。 【特長】 ■大型フィールドサイズの加工 ■調整可能なUV出力 ■低温薄膜加工で、レーザエネルギーを選択的に照射可能 ■50年にわたるエキシマレーザの経験 ■幅広いレーザ出力とエネルギーの選択肢をご用意 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
元素/同位体分析を改善！高い信号対雑音比でより良いデータを取得します
当社の製品では、USPレーザで表面をテクスチャリングするか、分析方法に ナノ秒またはウルトラファーストレーザを使用します(例: LIBS、LA-ICP-MS)。 強靭で繊細な材料の表面はすべて、熱損傷なしにウルトラファーストレーザビーム またはUVエキシマレーザでパターン化可能。 193nmのエキシマレーザは、粒子サイズが小さく、信号強度が高く、固有の分別が 低くなっています。 【特長】 ■ナノ秒レーザフレアを使用して、高い信号対雑音比でより良いデータを取得 ■エキシマレーザまたはfsレーザ増幅器を使用して、固体サンプルの元素および 同位体組成を分析 ■レーザ誘起周期構造(LIPS)を含む究極の表面パターンを作成 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
高繰り返し・長寿命・コンパクトなエキシマレーザー！
当社では、GAM LASER社製の『エキシマレーザー』を取り扱っております。 『エキシマレーザー』は、希ガスやハロゲンなどの混合ガスを用いて レーザー光を発生させる装置で、半導体リソグラフィ（ステッパー）、 インクジェットノズルの穴あけ、液晶アニーリングなど様々な分野で 利用されております。 【特長】 ■ダイレクトにUVレンジの光が取り出せる ■高ピークパワーのパルス発振 ■アブレーション加工のため、熱影響が少ない ■ガスを入れ替えるだけで数種類の波長が発振できる ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
レーザの用途別にカラーと仕様を分類し、様々なニーズに対応！
『GIGANEX』は、当社が半導体リソグラフィ用光源の エキシマレーザ製造から得た技術とノウハウを集結した先進のエキシマレーザです。 FPD製造プロセス、フレキシブルデバイス製造プロセス、半導体製造 プロセスなどの応用分野に期待できます。 【特性】 ■短波長(248nm・351nm) ■高出力(120W～600W) ■高周波(4000Hz～6000Hz) ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
KrFエキシマレーザを使用した次世代パッケージ基板への微細加工技術をご提案します！
『G300K』は当社が半導体リソグラフィ用KrFエキシマレーザ製造から得た技術とノウハウを集結した加工用エキシマレーザ光源です。 半導体後工程において、小さいビア（10μm）が必要な基板への加工やトレンチ加工が可能となっており、今後の先端基板への活用が期待できます。 【加工可能材料の一例】 層間絶縁材料/ソルダーレジストほか
