加工用エキシマレーザ【G300K】
KrFエキシマレーザを使用した次世代パッケージ基板への微細加工技術をご提案します!
『G300K』は当社が半導体リソグラフィ用KrFエキシマレーザ製造から得た技術とノウハウを集結した加工用エキシマレーザ光源です。 半導体後工程において、小さいビア(10μm)が必要な基板への加工やトレンチ加工が可能となっており、今後の先端基板への活用が期待できます。 【加工可能材料の一例】 層間絶縁材料/ソルダーレジストほか
- 企業:ギガフォトン株式会社
- 価格:応相談
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KrFエキシマレーザを使用した次世代パッケージ基板への微細加工技術をご提案します!
『G300K』は当社が半導体リソグラフィ用KrFエキシマレーザ製造から得た技術とノウハウを集結した加工用エキシマレーザ光源です。 半導体後工程において、小さいビア(10μm)が必要な基板への加工やトレンチ加工が可能となっており、今後の先端基板への活用が期待できます。 【加工可能材料の一例】 層間絶縁材料/ソルダーレジストほか
優れた品質と性能を備えた、幅広いレーザ出力とエネルギーの選択肢をご用意!
当社で取り扱う『エキシマレーザ』の高エネルギーUVパルスを マイクロエレクトロニクス、ディスプレイ、理科学研究、メディカル、 薄膜加工にご活用いただけます。 試作品から大量生産まで、適切な出力レベルに対応。均一な大面積の フラットトップビームでサンプル表面を覆います。 また、低温薄膜加工により、レーザエネルギーを選択的に照射できます。 【特長】 ■大型フィールドサイズの加工 ■調整可能なUV出力 ■低温薄膜加工で、レーザエネルギーを選択的に照射可能 ■50年にわたるエキシマレーザの経験 ■幅広いレーザ出力とエネルギーの選択肢をご用意 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
高繰り返し・長寿命・コンパクトなエキシマレーザー!
当社では、GAM LASER社製の『エキシマレーザー』を取り扱っております。 『エキシマレーザー』は、希ガスやハロゲンなどの混合ガスを用いて レーザー光を発生させる装置で、半導体リソグラフィ(ステッパー)、 インクジェットノズルの穴あけ、液晶アニーリングなど様々な分野で 利用されております。 【特長】 ■ダイレクトにUVレンジの光が取り出せる ■高ピークパワーのパルス発振 ■アブレーション加工のため、熱影響が少ない ■ガスを入れ替えるだけで数種類の波長が発振できる ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。