3'-アセトキシム-2'-デオキシヌクレオシド
3'-アセトキシム-2'-デオキシヌクレオシド の利点!
この新規なヌクレオシドビルディングブロックは、 従来の保護基を持つ試薬と比較して、下記のような優れた利点を提供します。 1. 極めて穏やかな脱保護条件 ・従来の脱保護: 標準的なオリゴヌクレオチド合成では、オリゴマーを支持体から切断し、保護 基(特にベンゾイルやイソブチリルなどのアシル保護基)を除去するために、濃アンモニア水ま たは高温での処理など、過酷な条件が必要でした。これらの条件は、修飾されたヌクレオシド や長鎖オリゴヌクレオチドなど、不安定な配列に損傷を与える可能性がありました。 ・アセトキシム保護基: 3'-アセトキシム保護基は、水または弱塩基性緩衝液(例:pH 7~8 のト リエチルアンモニウムカルボネート)を用いた室温での処理など、極めて穏やかな条件下で速 やかに除去できます。 これは、特に熱や塩基に弱い分子(例:蛍光色素、チオレート修飾)を含む複雑なプローブや薬 剤の合成において、純度と収率を劇的に向上させます。 2. 合成サイクル時間の短縮 穏やかな脱保護条件は、合成プロセスの全体時間を短縮します。
- 企業:サパラ株式会社
- 価格:応相談