バッチスパッタ装置 - メーカー・企業と業務用製品 | イプロスものづくり

ITO成膜用PVDバッチ装置

ITO膜の膜質コントロールを解決

当社では、研究開発から小規模量産まで対応可能な ITO成膜用バッチ式スパッタリング装置（PVD） を取り扱っております。本装置により、光半導体デバイスや電子デバイス向けのITO薄膜成膜が可能です。 本装置はDC・RF両電源を搭載し、放電の際のスパッタ電圧を制御することによって低抵抗（＜200μΩ・cm)かつ高透過率(>90%@400~700nm[ITO自体])のITO薄膜を得ることが出来ます。 また、低温から高温（最大350℃）までの成膜に対応 しており、結晶性の制御が可能です。半導体ウェーハやガラス基板はもちろん、PET・ポリカーボネートなどの樹脂基板への成膜にも対応しております。