ITO膜の膜質コントロールを解決
当社では、研究開発から小規模量産まで対応可能な ITO成膜用バッチ式スパッタリング装置（PVD） を取り扱っております。本装置により、光半導体デバイスや電子デバイス向けのITO薄膜成膜が可能です。 本装置はDC・RF両電源を搭載し、放電の際のスパッタ電圧を制御することによって低抵抗（＜200μΩ・cm)かつ高透過率(>90%@400~700nm[ITO自体])のITO薄膜を得ることが出来ます。 また、低温から高温（最大350℃）までの成膜に対応 しており、結晶性の制御が可能です。半導体ウェーハやガラス基板はもちろん、PET・ポリカーボネートなどの樹脂基板への成膜にも対応しております。
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基本情報
＜特徴＞ ・ITO膜の特性をプロセスパラメータにより精密にコントロール可能 ・DC＋RFハイブリッドによる成膜が可能 ・ガス流れの均一性を確保したガスインレット構造 ・インラインスパッタ方式による高スループット成膜 ・比抵抗：＜２００μΩ・cm（膜厚等により変化） ・透過率：>90%(400~700nm） ＜仕様＞ ・ローディングチャンバーおよび成膜チャンバーを搭載 ・パレット〔330 × 330 mm²〕を使用し、4インチウェーハ9枚または6インチウェーハ4枚相当の成膜が可能 ・強磁界カソードを搭載（5 × 15 インチ矩形カソードを3基配置） ・DC電源：10kW ・RF電源：1kW ・成膜中でもロードロックチャンバーにパレットをセット可能（高スループットを実現） ・プリ加熱機構を搭載 ・2種類以上のプロセスガスライン（Ar、O₂ など）に対応 ・小フットプリント設計（W 2190 mm × D 1360 mm）
価格帯
納期
用途／実績例
・比抵抗や透過率などの膜特性は、成膜プロセスパラメータ（特に印加電力・電圧・電流）によって精密に制御することが可能です。本装置では、高スループットかつ良好な膜厚分布を実現した成膜工程を提供します。 ・研究開発のみならず量産工程においても、ITO膜を用いた光デバイス（OLED、LCD、タッチセンサー、ソーラーセル、フォトダイオードなど）および光電子デバイス（光閉じ込め電極など）への応用に際し、膜質コントロールに課題を抱えるエンジニアの方々にお勧め致します。
企業情報
当社は、プラズマ技術を応用したエッチング、成膜、切断装置に加え、 ICP, RIE, DSE, IBE, IBD, PECVD, HDPCVD, HDRF F.A.S.T.-ALD装置の販売、 並びに、当該装置に関するカスタマーサービスの提供しております。 米国フロリダ州に本社を構える、Plasma-Therm LLCは、1974年に設立。 設立以来、48年間プラズマ技術を応用した半導体製造装置の製造・販売を 行っています。 ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。 ▼グループ会社Corial 公式サイト https://corial.plasmatherm.com/en
