ナノマテリアル(金属ナノ粒子、ナノワイヤー、ナノシート、ナノエレクトロニクス用材料)用薄膜の成膜に好適！
『TFE ニュースパッタリングシリーズ』は、多彩な機能を有する 研究開発及び小規模生産用システムであり、金属ナノ粒子、ナノワイヤー、 ナノシートなどのナノマテリアル用メタル膜・誘電体膜の最大800℃までの 高温成膜が可能な小型スパッタリング装置です。 また手動あるいは自動ロードロックが選択可能で、かつPLCおよびPCによる 完全自動制御とインターネットによるリモートコントロールを実現した スパッタリング装置。 ナノマテリアル用薄膜成膜において高い基板加熱温度(最大加熱温度： 800℃)を求めるエンジニアの方におすすめします。 【特長】 ■ナノマテリアル(金属ナノ粒子、ナノワイヤー、ナノシート、 ナノエレクトロニクス用材料)用薄膜の成膜に好適 ■他社装置では困難な800℃基板加熱が可能 ■基板回転付きコスパッタが可能 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。
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基本情報
【その他の特長】 ■研究開発及び小規模生産用スパッタリング装置 ■最大加熱温度：800℃ ■Cosputterが可能(基板回転が可能) ■基板サイズ：2インチから8インチに対応(異形状のワークをパレットに搭載して搬送することが可能) ■最大4つのカソード(スパッタアップ・スパッタダウン)の装着が可能 ■強誘電体・強磁性体用強磁場カソードを提供可能 ■手動及び自動ロードロックを選択可能 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。
価格帯
納期
用途／実績例
【用途】 ■ナノマテリアル(金属ナノ粒子、ナノワイヤー、ナノシートなど微細構造をもつメタルや誘電体)用高温成膜 ■光学薄膜用途：低屈折率材料(SiO2)及び高屈折率材料：(Ta2O5、Nb2O5、TiO2)の成膜 ■磁性層(NiFe、FeCo、CoFeB、Pd、Co)の成膜 ■EUVマスクブランクス超薄膜多層膜の成膜(Si、Mo、Ru) ■高温ボロメトリック・サブストイキオメトリック膜の成膜(VOx、TiOx) ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。
企業情報
当社は、プラズマ技術を応用したエッチング、成膜、切断装置に加え、 ICP, RIE, DSE, IBE, IBD, PECVD, HDPCVD, HDRF F.A.S.T.-ALD装置の販売、 並びに、当該装置に関するカスタマーサービスの提供しております。 米国フロリダ州に本社を構える、Plasma-Therm LLCは、1974年に設立。 設立以来、48年間プラズマ技術を応用した半導体製造装置の製造・販売を 行っています。 ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。 ▼グループ会社Corial 公式サイト https://corial.plasmatherm.com/en
