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CSupremにおける物理モデル
イオン注入(ion implantation) 蒸着(deposition)、エッチング(etching)、拡散(diffusion)、酸化(oxidation)に対する物理モデルをベースに様々な半導体構造の1次元、2次元および3次元のプロセスシミュレーションが可能。IC製造工程の研究開発コストをコントロールするのに欠くことのできない信頼のある正確なシミュレーションツール。デバイスシミュレーターのためのドーピングプロファイル(doping profile)を出力可能。
生物化学処理を含む定常・非定常両用の多機能汎用水処理プロセスシミュレータ
フランスDynamita社 水処理プロセスシミュレータ SUMOは、 活性汚泥や嫌気性消化を含む生物化学処理や化学的リン除去処理、 凝集沈殿処理等多様な水処理プロセスを厳密にモデル化できる 定常・非定常両用のシミュレータとして開発されました。 Open Architecture により、モデルのcustomizeやユーザモデルの 追加が容易であり、他のProgramとの双方向のLinkも可能です。 自治体の下水・上水処理から化学工場の排水処理まで広く使用されています。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
