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加熱源に薄型ヒータを採用しており、高速温度プロファイルプロセスに対応
真空ホットプレートチャンバー 「PH-224型」は、小型バッチ炉タイプで、少量品、研究開発に最適です。 加熱源に薄型ヒータを採用しており、高速温度プロファイルプロセスに対応いたします。 温度コントローラーは、専用タイプによりプロセスの確認に必要なデータを取得（アナログ出力）できます。 【特徴】 ○観察窓により、ワークの状態が視認できる ○空冷にて、最高温度400℃対応 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
金属、ウエハ等の真空雰囲気および低酸素濃度雰囲気下での高速昇温加熱プロセスに！
「PH-224型」は最高温度400℃ 対応の真空ホットプレートチャンバーです。小型バッチ炉タイプで、少量品、研究開発に最適です。 加熱源に薄型ヒータを採用しており、高速温度プロファイルプロセスに対応いたします。また、観察窓により、ワークの状態が視認できます。 温度コントローラーは、専用タイプによりプロセスの確認に必要なデータを取得（アナログ出力）できます。空冷にて、最高温度400℃対応です。 ●詳しくはカタログをダウンロード、もしくはお問い合わせください。
最高温度400℃！小型バッチ炉タイプで、少量品、研究開発に最適です。
半自動真空ホットプレートチャンバー「PH-224S-200型」は、加熱源にセラミックヒータを採用しており、高速温度プロファイルプロセスに対応いたします。 温度コントローラーは、専用タイプによりプロセスの確認に必要なデータを取得（アナログ出力）できます。 【特徴】 ○空冷にて、最高温度400℃対応 ○小型バッチ炉タイプで、少量品、研究開発に最適 ○観察窓により、ワークの状態が視認できる ○バルブ動作 自動対応（レシピに合わせてプログラム可能） 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
小型バッチ炉タイプで、少量品、研究開発に最適です。
半自動真空ホットプレートチャンバー 「PH-224S-42型」は、小型バッチ炉タイプで、少量品、研究開発に最適です。 加熱源に薄型ヒータを採用しており、高速温度プロファイルプロセスに対応いたします。 ウエハ加熱バッチ炉として、6”ウエハ3枚、8”ウエハ２枚の処理能力があります。 【特徴】 ○最高温度 300℃ 対応 ○温度コントローラーは、専用タイプにより プロセスの確認に必要なデータを取得（アナログ出力）できる ○バルブ動作 自動対応（レシピに合わせてプログラム可能） 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
金属、ウエハ等の真空雰囲気および低酸素濃度雰囲気下での加熱プロセス、材料評価
真空ホットプレートチャンバー 「PH-224D型」は、金属、ウエハ等の真空雰囲気および低酸素濃度雰囲気下での加熱プロセス、材料評価に最適です。 【仕様カスタマイズ】 ○温度制御範囲 室温～200℃ ○プレートサイズ 200×200mm ○圧力範囲 -100KPa（真空）~0.02MPa（N2ガス充填時） 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
