ホローカソードソース『HCS』
プロセス適合のために電極間隔を自由に調整可能！低放電電圧で穏やかな処理を実現
『HCS』は、ホローカソードとアノードの組込みが特長の表面処理 コンポーネントです。 電子はカソードの深い溝壁の電位降下間に制限されています。これにより、 ガスのイオン化が促進され、プラズマ密度も増加。溝の中にプラズマを押し込むと、 電極プレートの下に非常に強力で明るいプラズマが生まれます。 シンプルでスケーリング可能な設計で頑丈の挙動および簡単なカスタマイズを 実現。高密度プラズマの処理に関して、CCPおよびICPに匹敵し、コストはICPより 低廉です。 【特長】 ■ホローカソード設計、基板に依存しない ■高い電子密度とイオン化効率がラジカルの高密度を促進 ■表面クリーニング、活性化、エッチング目的のスケーリング可能なイオン源 ■薄膜のコーティングにも特定の部品設計により適用可能 ■動的および静的な基板搬送に使用可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：フォンアルデンヌジャパン株式会社
- 価格：応相談
