プロセス適合のために電極間隔を自由に調整可能！低放電電圧で穏やかな処理を実現
『HCS』は、ホローカソードとアノードの組込みが特長の表面処理 コンポーネントです。 電子はカソードの深い溝壁の電位降下間に制限されています。これにより、 ガスのイオン化が促進され、プラズマ密度も増加。溝の中にプラズマを押し込むと、 電極プレートの下に非常に強力で明るいプラズマが生まれます。 シンプルでスケーリング可能な設計で頑丈の挙動および簡単なカスタマイズを 実現。高密度プラズマの処理に関して、CCPおよびICPに匹敵し、コストはICPより 低廉です。 【特長】 ■ホローカソード設計、基板に依存しない ■高い電子密度とイオン化効率がラジカルの高密度を促進 ■表面クリーニング、活性化、エッチング目的のスケーリング可能なイオン源 ■薄膜のコーティングにも特定の部品設計により適用可能 ■動的および静的な基板搬送に使用可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
この製品へのお問い合わせ
基本情報
【メリット（抜粋）】 ■シンプルでスケーリング可能な設計で頑丈の挙動および簡単なカスタマイズを実現 ■高密度プラズマの処理に関して、CCPおよびICPに匹敵し、コストはICPより低廉 ■RFとVHFの電源選択可能 ■低い電源出力 ■低放電電圧で穏やかな処理を実現 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
価格帯
納期
用途／実績例
【用途】 ■表面処理 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
カタログ（1）
カタログをまとめてダウンロード
企業情報
当社は、東京にあり、ここを中核としてVON ARDENNEの販売活動、 戦略事業展開のサポートを行っております。 また、当社のサービスエンジニアが日本顧客の装置をサポート。 これまで建材ガラス製膜システム、ロール・ツー・ロールウェブコーター、 太陽光電池スパッタ装置、電子ビームシステムを設置してまいりました。 ご要望の際はお気軽に、お問い合わせください。