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オールメタル構成！高温域では金属表面が微量O2と反応しやすく、残留酸素の影響を低減
当社で取り扱っている「小型メタル炉」についてご紹介いたします。 ～1800℃の安定運転で、高温処理(焼結/拡散接合/時効など)に対応しており、 オールメタル構成で炉材由来コンタミを極小化し、色味・特性の再現性を 向上します。 また、大学・研究室など設置スペースが限られる環境でも据付容易な コンパクト設計です。 【特長】 ■～1800℃の安定運転：高温処理(焼結/拡散接合/時効など)に対応 ■クリーン度：オールメタル構成で炉材由来コンタミを極小化 ■低酸素雰囲気の再現性：N2/Arによるパージ・置換を標準手順化 ■コンパクト設計：大学・研究室など設置スペースが限られる環境でも据付容易 ※さらに詳しい情報については資料をダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
セラミックスと金属の熱膨張差を制御しながら、クリーン雰囲気で強固に封着
当社では、全金属ホットゾーンの「メタル炉」を取り扱っております。 接合(封着・ろう付け・拡散接合)では、微量O2/H2O/炭化水素が 濡れ性・界面反応・気密に直結。メタル炉は真空10^-5Pa級＋(Mo/W) ホットゾーンで、炭素・有機由来の汚染源を排除します。 薄膜・電極・光学部材の高純度アニール/封止などに応用可能です。 【特長】 ■高真空(10^-5Pa級)～還元雰囲気運転対応 ■金属炉構造(Mo/W)で清浄雰囲気を維持 ■±1℃以内の温度均一性と長期安定制御 ■金属治具や荷重加圧機構との組合せが容易 ■試料の小型化・局所加熱試験にも対応 ※さらに詳しい情報については資料をダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
セラミックスと金属の気密封着を、高純度雰囲気で実現。
研究機関における実験では、高品質な試料作製が求められます。特に、セラミックスと金属の接合においては、微量な酸素や水分、炭化水素が、接合の品質や気密性に悪影響を及ぼす可能性があります。メタル炉は、高真空かつ清浄な雰囲気を提供することで、これらの課題を解決します。 【活用シーン】 ・薄膜・電極・光学部材の高純度アニール ・セラミックスと金属の接合実験 ・各種材料の熱処理実験 【導入の効果】 ・接合部の強度と気密性の向上 ・実験の再現性の向上 ・高品質な試料作製による研究成果の向上
セラミックスと金属を高純度雰囲気で気密封着
光学業界では、高性能な光学部品の製造において、材料の接合精度と清浄度が重要です。特に、温度変化や外部環境の影響を受けやすい光学部品においては、セラミックスと金属の接合部の気密性と耐久性が、製品の性能を左右します。不適切な接合は、光学特性の劣化や製品寿命の低下につながる可能性があります。当社のメタル炉は、高真空・還元雰囲気下で、セラミックスと金属の熱膨張差を制御しながら、強固な封着を実現します。 【活用シーン】 ・高精度な光学素子の封止 ・薄膜光学部品のアニール ・光学部品のろう付け 【導入の効果】 ・高真空環境による接合部の清浄度向上 ・安定した気密性の確保 ・光学特性の長期安定化
セラミックスと金属の気密封着を、高純度雰囲気で実現。
半導体業界では、製品の信頼性と長期的な性能維持のために、封止工程における気密性が非常に重要です。特に、温度変化や外部環境からの影響を受けやすい半導体デバイスにおいては、封止材と金属・セラミックス材料間の強固な接合が求められます。不適切な封止は、デバイスの故障や性能劣化につながる可能性があります。メタル炉は、高真空かつ清浄な雰囲気を提供することで、セラミックスと金属の熱膨張差を制御しながら、強固な封着を実現します。これにより、半導体デバイスの信頼性向上に貢献します。 【活用シーン】 ・薄膜・電極・光学部材の高純度アニール ・セラミックスと金属の封止 【導入の効果】 ・低O2/H2O/HC環境による、濡れ性・界面強度・気密性の安定化 ・炭素フリー環境による、汚染・炭化の防止 ・真空、還元雰囲気の迅速な切替による、試作～量産サイクルの短縮
