プラズマ関連製品 RFラジカルビーム源 IRFS-504
ICPタイプのRF放電により化学的に活性なラジカルを形成し、差圧によりフラックスを引き出しています。
放電部、引き出し部は高純度PBNで製作しており、活性ガス導入時でも長時間安定動作が行え、かつクリーンな原子・ラジカルビームを得ることができます。特に窒素ラジカル源として、多くの実績を有しています。
- 企業:アリオス株式会社
- 価格:応相談
1~1 件を表示 / 全 1 件
ICPタイプのRF放電により化学的に活性なラジカルを形成し、差圧によりフラックスを引き出しています。
放電部、引き出し部は高純度PBNで製作しており、活性ガス導入時でも長時間安定動作が行え、かつクリーンな原子・ラジカルビームを得ることができます。特に窒素ラジカル源として、多くの実績を有しています。