ICPタイプのRF放電により化学的に活性なラジカルを形成し、差圧によりフラックスを引き出しています。
放電部、引き出し部は高純度PBNで製作しており、活性ガス導入時でも長時間安定動作が行え、かつクリーンな原子・ラジカルビームを得ることができます。特に窒素ラジカル源として、多くの実績を有しています。
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基本情報
【特徴】 ○放電が目視確認できるビューポートを標準装置しております。 発光モニターや分光器を使用して、放電状態・励起状態を確認できます。 ○完全金属シール、200℃ベーカブル対応によりMBE装置等、各種超高真空装置に使用可能です。 ○分子線セルポート取付を前提に設計されているため、従来型のMBE装置に増設できます。 ○自動マッチング機構により、操作が簡単であり、長時間安定した動作が可能です。 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。
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企業情報
1972年、初代社長堀田が自宅の玄関先を作業場に 大誠産業株式会社を設立して以来、技術開発、 研究開発の仕事に打ち込んでまいりました。 当初は、気象研究所のポラックカウンタなどの開発に携わり、 空気を科学する仕事から始まりました。 その後、リークデテクタのメンテナンスサービスを 始めるなどして、次第に真空の世界に仕事を広げて行きました。 創立10年頃から超高真空の仕事が増え始め、 創立15年頃には小型の装置を製造できるようになりました。 現在、仕事の守備範囲は格段に増え、超高真空、 MBE、CVD、ECR、RFラジカル源など単に真空装置に止まらず、 各種のプラズマ、イオンあるいは電子を利用した 機能部品の開発を進めております。 今後、真に先端技術の世界で通用する 小企業を目標にしたいと考えております。