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EMIS-221C

最終更新日:2010年10月01日

アリオス株式会社
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マイクロ波イオン源 EMIS-221C

ラミック放電管タイプで チャンバー外付型の有磁場型マイクロ波励起イオン源 【特徴】 ○超高真空仕様により、金属汚染の少ないイオンが得られる ○プラズマ室は高純度アルミナ製で  金属汚染の少ないイオンが得られる ○完全金属シール構造により、MBE装置など  各種超高真空装置に使用可能 ○加速用高圧電源(オプション)の使用により、イオン加速が可能  (ラジカル源、プラズマ源としての使用も可能) ○マイクロ波は同軸ケーブルにて供給されるため  面倒な導波管接続が不要 ○シーケンサやパソコンによる外部制御が可能 ●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。

    エッチング装置その他半導体製造装置
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マイクロ波イオン源 EMIS-221C

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ラミック放電管タイプで チャンバー外付型の有磁場型マイクロ波励起イオン源 【特徴】 ○超高真空仕様により、金属汚染の少ないイオンが得られる ○プラズマ室は高純度アルミナ製で  金属汚染の少ないイオンが得られる ○完全金属シール構造により、MBE装置など  各種超高真空装置に使用可能 ○加速用高圧電源(オプション)の使用により、イオン加速が可能  (ラジカル源、プラズマ源としての使用も可能) ○マイクロ波は同軸ケーブルにて供給されるため  面倒な導波管接続が不要 ○シーケンサやパソコンによる外部制御が可能 ●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。

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用途/実績例

【用途】 ○イオンドーピング ○エッチング ○成膜アシスト

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1972年、初代社長堀田が自宅の玄関先を作業場に 大誠産業株式会社を設立して以来、技術開発、 研究開発の仕事に打ち込んでまいりました。 当初は、気象研究所のポラックカウンタなどの開発に携わり、 空気を科学する仕事から始まりました。 その後、リークデテクタのメンテナンスサービスを 始めるなどして、次第に真空の世界に仕事を広げて行きました。 創立10年頃から超高真空の仕事が増え始め、 創立15年頃には小型の装置を製造できるようになりました。 現在、仕事の守備範囲は格段に増え、超高真空、 MBE、CVD、ECR、RFラジカル源など単に真空装置に止まらず、 各種のプラズマ、イオンあるいは電子を利用した 機能部品の開発を進めております。 今後、真に先端技術の世界で通用する 小企業を目標にしたいと考えております。

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