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【デモ機あり】繰り返し精度向上！ナノレベルで位置制御ができる、誤差を最小限に抑えたリニアステージ。直立・倒立でも使用OK！。
当社が取扱う『トゥルー・ナノ・ポジショニング』は、 ナノメーターレベルで位置制御ができる、高精度を追求したリニアステージです。 6軸ステージにより３Dでの自由曲線を描くことができます。 独自6D precisionで従来のISOによる2Dと比べ、目標位置と実際の位置との誤差を計測し、そして、最小化することにより、真のナノメーターレベルの繰り返し精度を実現できます。 【特長】 ■X-Y-Z-θｘ-θｙ-θz の組み合わせ自由 ■６D Precisionにより、真のナノメーター精度へ ■XY直交度1秒角のオプションあり ■真空オプションあり ※詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。
レーザー切断の精度を向上。±0.2 µmの高精度位置決めを実現。
レーザー加工業界では、高品質な切断を実現するために、ワークの位置決め精度が重要です。特に、微細加工や高精度な切断が求められる場合、位置決め誤差は製品の品質に直接影響します。A-143 小型リニアエアベアリングステージは、±0.2 µmの位置精度により、レーザー加工における位置決め精度を格段に向上させ、高品質な切断を可能にします。 【活用シーン】 ・レーザーカッター ・レーザーマーキング 【導入の効果】 ・高精度な切断による製品品質の向上 ・歩留まりの向上 ・加工時間の短縮
ピエゾWalk駆動、ナノメートル精度、半導体製造の位置決めに
半導体製造業界では、ウェーハやマスクの位置決めにおいて、高い精度と安定性が求められます。特に、微細加工や検査工程においては、ナノメートルレベルの位置決め能力が、製品の品質と歩留まりを左右する重要な要素となります。位置決めの精度が低いと、製造不良や検査エラーが発生し、コスト増につながる可能性があります。当社の高発生力＆高精度ピエゾリニアステージ N-332は、ピエゾWalkドライブにより、ナノメートル精度での位置決めを実現し、半導体製造における課題解決に貢献します。 【活用シーン】 ・ウェーハプロービング ・マスクアライメント ・半導体製造装置 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる歩留まり向上 ・製造プロセスの効率化 ・製品品質の安定化
