レーザー加熱装置 - メーカー・企業と業務用製品 | イプロスものづくり

半導体製造向け｜レーザーアニールソリューション『ExLASER』

「2秒で1000℃」の急速加熱！微細化と多層化（3D実装）が進む半導体の加熱プロセスに好適！

ExLASER（エックス・レーザー）は、半導体レーザーと独自の光学系により、対象物（シリコンウエハ等）を『平面で』『瞬間加熱する』レーザー加熱装置です。 高出力レーザーにより2秒で1000℃の急速加熱を実現！ 独自の光学設計により面全体を均一に加熱でき、放射温度計と組み合わせた細やかな温度制御や、必要な部分だけを狙った局所・表層加熱にも対応します。 半導体の微細化・多層化（3D実装）が進む中、酸化、拡散、活性化、シリサイド化、シンター工程などのさまざまな加熱プロセスへの活用をご提案します。