「2秒で1000℃」の急速加熱！微細化と多層化（3D実装）が進む半導体の加熱プロセスに最適！
ExLASER（エックス・レーザー）は、半導体レーザーと独自の光学系により、対象物（シリコンウエハ等）を『平面で』『瞬間加熱する』レーザー加熱装置です。 高出力レーザーにより2秒で1000℃の急速加熱を実現！ 独自の光学設計により面全体を均一に加熱でき、放射温度計と組み合わせた細やかな温度制御や、必要な部分だけを狙った局所・表層加熱にも対応します。 半導体の微細化・多層化（3D実装）が進む中、酸化、拡散、活性化、シリサイド化、シンター工程などのさまざまな加熱プロセスへの活用をご提案します。
この製品へのお問い合わせ
基本情報
■特長 【急速加熱】 高出力レーザーにより、2秒で1000℃の急速加熱を実現。急速な昇温・降温により、加熱プロセスの時間短縮に貢献します。 【均一加熱】 連続発振（CW）の半導体レーザーを採用。独自の光学系により、平面全体を均一に加熱。1000℃で±3℃の高い熱均一性を実現します。 【温度制御】 放射温度計と組み合わせることで、細やかな照射・温度制御が可能です。 【局所・表層加熱】 必要な部分だけを狙った局所加熱や、表層のみの加熱にも対応します。 【省エネ】 雰囲気全体ではなく対象物のみを直接加熱。エネルギー消費を抑え、環境負荷低減に貢献します。 ※昇温速度はレーザー出力やワーク、加熱条件等により異なります。詳細は当社営業担当へご相談ください。
価格帯
納期
用途／実績例
■半導体製造プロセスにおける加熱用途 【用途例】 ○酸化 ○拡散 ○活性化 ○シリサイド化 ○シンター工程 ○研究・開発用途 R&Dセンターには最大3kWの実機を設置。 サンプル照射によるワーク評価テストにも対応しています。
カタログ（1）
カタログをまとめてダウンロード
企業情報
坂口電熱は1923年（大正12年）の創業以降、電熱技術を応用した工業用電気アイロンの製造販売を開始し、100年以上にわたって幅広い産業分野へ電熱技術（加熱／測定／制御）を基盤としたソリューションを提供してまいりました。ヒーターに関連する多数の製品を取り揃え、大型設備や装置も手掛ける熱エネルギー変換技術のプロ集団として、お客様のニーズに長年の知見でお応えします。
