【半導体向け】ピエゾナノ位置決めアクチュエータ N-216
最大800Nの保持力と5nm分解能を実現。半導体製造装置の高精度位置決めを支える高推力ピエゾドライブ
半導体製造では、ウェハ検査やナノリソグラフィなどの工程において、ナノメートルレベルの高精度位置決めが求められます。わずかな位置決め誤差でも、製品品質の低下や歩留まり悪化につながる可能性があります。 N-216は、PI独自のNEXLINE(R) PiezoWalk(R)ウォーキングドライブ技術を採用した高推力リニアアクチュエータです。 0.03nm(オープンループ)/5nm(クローズドループ)の高分解能と最大800Nの保持力により、半導体製造装置における高精度かつ安定したナノ位置決めを実現します。 【活用シーン】 ・ウェハ検査装置 ・ナノリソグラフィ装置 ・半導体製造装置 ・ナノ計測装置 ・精密位置決め用途 【導入の効果】 ・ナノメートルレベルの高精度位置決めによる歩留まり向上 ・高推力駆動による安定した位置決め性能 ・製造プロセスの効率化 ・高品質な半導体製品の安定生産に貢献
- 企業:ピーアイ・ジャパン株式会社
- 価格:応相談