集束イオンビーム加工観察装置【加工事例有り】
数ミクロン以下のナノオーダーの加工技術！極低加速電圧による低ダメージ加工（高精度・高品位）が可能！
【PRポイント】 ○φ1um以下の超微細穴加工が可能 ○微細な構造加工が可能 ...etc 【集束イオンビーム（FIB）加工の原理】 数十ナノメートル程度に集束したイオンビームを試料表面で走査する事で発生した2次電子を検出し 顕微鏡像の観察、試料表面の加工が可能。FIBのイオン源にはガリウムイオンを使用しており、その イオンビームを試料の表面に照射すると、 試料表面から2次電子が発生すると共に、ガリウムイオンが電子と比較してはるかに重い事から、 試料を構成する原子をはじき出すいわゆるスパッタリング現象が発生し、はじき出された原子は 2次イオンとなって試料から飛び出します。これらの現象を利用することで、観察と加工を行います。 【仕様】 ・最大ワークサイズ 50(X)×50(Y)×10(Z)mm ・最小加工サイズ（目安） 溝幅：100nm(～L/D=3）、穴径φ200nm（～L/D=5） ・高プローブ電流による高速＆大面積加工 ・極低加速電圧による低ダメージ加工(TEM試料作製等） ※加工例・実績例を掲載中です。詳しくはお問い合わせ、カタログをダウンロードしてご覧下さい。
- 企業：東レ・プレシジョン株式会社
- 価格：応相談
