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加熱炉(ガス置換) - メーカー・企業と業務用製品 | イプロスものづくり

加熱炉の製品一覧

1~8 件を表示 / 全 8 件

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真空(ガス置換)加熱炉

Max1000℃!石英管外熱式加熱炉で真空加熱及びガス置換加熱が可能です

株式会社和泉テックで取り扱う『真空(ガス置換)加熱炉』をご紹介します。 ガスはO2に加えてArも使用可能。 試料を早く冷却するため炉体は可動式です。 石英管外熱式加熱炉で真空加熱及びガス置換加熱ができます 【仕様】 ■排気系 RP + TMP/到達真空5 x 10^-5Pa ■ガスはO2に加えてArも使用可能 ■Max 1000℃ ■石英管内経φ76 ■試料を早く冷却するため炉体は可動式 ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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マルチ雰囲気炉|湿潤・加湿雰囲気での反応焼成に対応

Wetter直結の加湿制御+真空置換で、露点・酸素分圧・ガス種を精密制御

当社では、露点×酸素分圧を自在に設計できる「マルチ雰囲気炉」を 取り扱っております。 加湿がブレやすい/切替が遅く再現性が出ない、結露・逆流・汚染・腐食が 怖くて踏み出せない、チューブ炉では並列自由度が低く条件出しに時間がかかる などといった課題を解決。 また、仕様につきましては、お客様の要望によりカスタム可能ですので、 詳細はご相談ください。 【当社カーボン炉が効く理由】 ■ガス種に依存しない加湿系:N2/Ar/空気/(少量H2も可)へWetter直結で  加湿量を設定 ■真空置換→ガス置換:試料内部空気を事前除去し、立ち上がりから狙いの  湿潤雰囲気へ ■切替えの速さ:乾燥・湿潤、N2/Ar・空気(少量H2)を簡便に切り替え可能 ■棚積み×角型サヤ:同条件多検体で並列試験を短サイクル化 ※さらに詳しい情報については資料をダウンロードいただくか、お気軽にお問い合わせください。

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《集光式加熱炉 IRシリーズ》超高速加熱冷却・省エネ・コンパクト

集光加熱方式で約50℃/secの急速昇温、加熱ランプOFFで急冷も可能。各種雰囲気への対応

世界中の様々な研究機関で使用されている、米倉製作所の集光式加熱炉「IR Series(アイアールシリーズ)」は、近赤外線集光加熱を利用したIRイメージ炉です。 クリーンな環境構造で、超高速加熱冷却が行えます。 製品ラインナップとしては、6方向からの急速加熱冷却で従来の加熱炉に比べ、温度分布領域を飛躍的に拡大した「IR-HP(6放物面輻射)」、4方向からの急速加熱冷却で従来の加熱炉に比べ2倍の温度分布領域と急加熱「IR-QP(4楕円共有集光)」、2方向からの急速加熱冷却で従来の加熱炉に比べ顕微鏡観察を可能にした「IR-TP(2楕円共有)」を取り揃えております。 【主な特徴】 ○クリーン・省エネ・高性能 ○真空・ガス置換+観察 ○低電力で高速加熱(わずか4kwで1500℃/30sec) ○ヒータはタングステンフィラメントで、発熱温度は3400Kと高温 ○ワット密度はニクロムヒータに比べ、10~20倍 ○リアルタイムで温度制御が可能 ○コンパクトサイズ 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。

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マルチ雰囲気炉|反応条件を雰囲気×温度で精密設計

真空置換→N2/Ar/H2/NH3/加湿まで、雰囲気を切替えて反応条件を再現

当社では、酸化・還元・窒化・加湿など、複数雰囲気での材料評価に対応した「マルチ雰囲気炉」を取り扱っております。 真空置換後にN2/Ar/H2/NH3/Air/加湿ガスなどを切替え、雰囲気×温度の二軸で反応条件を精密に設計できます。 炉内には真空システムを内蔵し、処理後の真空置換や所定ガス置換が可能です。雰囲気履歴を管理することで、炉内残留ガスリスクを低減します。 【特長】 ■ 真空置換後、各種ガス雰囲気へ切替可能 ■ H2/NH3/加湿ガスなど反応性ガスに対応 ■ 温度と雰囲気をプログラム制御 ■ 排気・除害・安全機器との連携も検討可能 ■ 研究開発からスケールアップ条件検討まで対応 ■設備導入前の焼成テストも可能 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。

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マルチ雰囲気炉|有害ガス発生を伴う焼成・排ガス処理に対応

小スケールでは見えにくい排ガスリスクを、炉・排気・除害設計でスケールアップ対応

当社では、NH3・CO・NOxなどの有害ガス発生を伴う焼成に対応した「マルチ雰囲気炉」を取り扱っております。 有機物を含む原料、樹脂系材料、触媒担体、電池材料などの焼成では、昇温・保持中にNH3、CO、NOx、HCN、炭化水素系ガスなどが発生する場合があります。 小型管状炉や小スケール試験では問題にならなかった発生ガスも、トレイ段数や処理量が増えることで、排気濃度・発生量・腐食性・安全対策が大きな課題になることがあります。 当社のマルチ雰囲気炉は、真空置換、雰囲気制御、加熱、排気、除害設備との連携まで含めて、焼成プロセス全体を設計できます。 【特長】 ■ NH3・CO・NOxなどの発生ガスを想定した炉設計 ■ 真空置換により処理前後の炉内ガス置換が可能 ■ N2、Ar、Air、NH3など各種雰囲気に対応 ■ スクラバー、触媒酸化、熱酸化など除害方式を検討可能 ■ トレイ段数・処理量増加を見据えたスケールアップ検討に対応 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。

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マルチ雰囲気炉|露点制御・湿潤雰囲気による金属表面処理

露点・酸素濃度を管理し、金属表面の酸化防止・改質・前処理に対応

金属部品や粉末材料の表面処理では、温度だけでなく、雰囲気ガス、露点、酸素濃度、処理時間が表面状態や品質に大きく影響します。 特に、酸化防止、表面改質、コーティング前処理、親水化・疎水化処理などでは、乾燥雰囲気・湿潤雰囲気・還元雰囲気を切り替えながら、再現性よく条件を検討することが重要です。 当社のマルチ雰囲気炉は、真空置換により炉内空気を排出した後、N2、Ar、Air、H2、NH3などの雰囲気ガスを切り替えて処理できます。また、Wetterを接続することで、湿潤雰囲気や露点を管理した表面処理条件の検討が可能です。 【特長】 ■ 真空置換後に各種ガス雰囲気へ切替可能 ■ Wetter接続により湿潤雰囲気・露点制御に対応 ■ 乾燥→湿潤→乾燥など雰囲気履歴を管理可能 ■ 金属表面の酸化防止、表面改質、前処理に適用 ■ 露点計・O2計を組み合わせた条件管理も検討可能 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。

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マルチ雰囲気炉|セラミックス焼結・緻密化条件の再現性向上

露点・酸素濃度を管理し、セラミックス焼結・緻密化条件を再現性よく評価

セラミックスの焼結・緻密化では、温度だけでなく、雰囲気ガス、露点、酸素濃度、昇温条件が、密度・気孔率・粒成長・表面状態に影響します。 特に、湿潤雰囲気での焼成、酸化・還元雰囲気の切替、乾燥→湿潤→乾燥などの雰囲気履歴を管理したい場合、通常の電気炉や管状炉では条件再現が難しくなることがあります。 当社のマルチ雰囲気炉は、真空置換により炉内空気を排出した後、N2、Ar、Air、H2、NH3などの雰囲気ガスを切り替えて処理できます。また、Wetterを接続することで、湿潤雰囲気や露点を管理したセラミックス焼成条件の検討が可能です。 【特長】 ■ 真空置換後に各種ガス雰囲気へ切替可能 ■ Wetter接続により湿潤雰囲気・露点制御に対応 ■ 乾燥→湿潤→乾燥など雰囲気履歴を管理可能 ■ セラミックスの焼結・緻密化・高密度化条件を検討可能 ■ 露点計・O2計を組み合わせた条件管理も検討可能 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。

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小型カーボン炉|3000℃級・低酸素雰囲気での主な用途

黒鉛化、炭化、焼結、結晶化など、小型カーボン炉で検討できる用途を紹介

当社で取り扱う「小型カーボン炉」は、低酸素雰囲気での3000℃級高温処理に対応した電気炉です。 炉内に炭素部材を採用し、真空置換後にAr、N2などの不活性ガス雰囲気で処理することで、高温域での酸化・再酸化を抑えた安定した加熱環境を形成します。 本資料では、小型カーボン炉の主な用途として、炭素材料の黒鉛化、セラミックスの炭化・焼結、高融点材料の高温処理、研究開発向けの小スケール試験などをご紹介します。 【主な仕様例】 ■ 設備寸法:1000W×1000D×2100H mm ■ 炉内有効寸法:200W×200D×200H mm ■ 対応雰囲気:不活性ガス Ar、N2、および真空 ■ 炉内材質:グラファイト ■ ドア構造:開き方式 ■ 真空ポンプ:ロータリーポンプ ■ 記録監視:温度、流量、圧力など ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。

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