遠赤外線ロールｔｏロール加熱炉
薄型基板・高機能フィルムの加熱処理に最適な遠赤外線ロール加熱炉
（特長） ●遠赤外線の持つ浸透力により、加熱時間の短縮・品質の向上が出来ます。 ●熱風循環機構を必要とせず、炉体は三次元方向に小さく出来ます。 ●高精度な温度分布が可能。幅方向±２℃を達成しました。 ●炉内はＮ２雰囲気が可能。給排気をしながら酸素濃度１００ｐｐｍ以下を達成しました。 （分野） フレキ基板、燃料電池、太陽電池、タッチパネル、ＨＤＤ材料、など。 （適用範囲） 使用温度：ＭＡＸ４００℃ 機材幅：ＭＡＸ１１００ｍｍ 炉内クリーン度：クラス１０００対応 炉長は、ご相談に応じます。 （その他） ■巻取・巻出機も取り扱っています。 ■テスト機を保有していますので、テスト検証が可能です。 ■価格・納期はお問合せ下さい。
- 企業：株式会社ノリタケカンパニー リミテド エンジニアリング事業部 東京営業所
- 価格：応相談
