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精密な温度分布を出すことが可能です
アルミは軽くて強くて錆びにくい金属で、電気や熱を伝えやすいなど優れた特性がありますが、熱処理をすることによりその特性を強化することができます。設計時に熱計算のシミュレーションや電気容量の計算を行うことで炉内の温度を正確に制御することができ、ご希望通りの処理物の出来ばえや特性を得ることができます。 【特長】 ● AMS規格（米国航空宇宙用熱処理規格）に対応可能です。 ● 精密な温度分布を出すことが可能です。 ● バッチ連続式の炉の取扱いがあります。 【おもなアルミ熱処理炉】 ■ ポット型アルミ溶体化時効炉（T5、T6） ■ ローラーハース式アルミ時効炉（T5） ■ トレー式アルミ溶体化時効炉（T5、T6） ■ トレープルプッシャー式アルミ溶体化時効炉（T5、T6） ■ トレー式アルミ砂焼炉 省エネ化、自動化、環境配慮、安全性など新しい課題やご相談がありましたら、お気軽にお声がけください。
グローブボックス内作業を最小に◎固体電解質材料スクリーニング/温度特性別インピーダンス評価◎複数均一・短時間・正確に試験評価
固体電解質の材料スクリーニング、温度特性に応じたインピーダンス評価等に力を発揮します！ ▼特徴▼ 1.無機電解質の加熱・焼結プロセスを短時間で様々な加熱パターン再現 ・50℃~1200℃の温度範囲の中で±1℃の精度で温度調整可能 ・昇温スピードもMAX300℃/minなので、RTからでも、短時間で様々な加熱パターンを試せる 2.リチウムイオン導電率(伝導度)評価のためのインピーダンス測定を複数個同時評価で効率的に ・コインセルの上下に、電極を取り付けた状態で加熱できる構造 ・コインセルホルダは4スロット用意 ・4サンプル同時に同条件で均一に加熱/測定 ・コインセル径はΦ20~Φ8mm各種ご用意 3.簡便な操作かつ、大気非暴露設計/雰囲気制御 ・グローブボックス内での作業はサンプルセットだけ ・石英管の中は、石英製のコインセルホルダが保持され、コインセルだけが正確に加熱される構造 ・完全密閉された透明石英管の中を、光加熱で外から加熱 ・ガス導入系統も加熱中の雰囲気コントロールも容易に 詳細はお問い合わせください
塩素炉/カーボン炉/メタル炉/マルチ雰囲気炉/管状炉の“できる雰囲気・到達温度・向いている用途"を超かんたん解説
当社で取り扱う、5つの炉の雰囲気対応・温度めやす・代表用途について ご紹介いたします。 Cl2/HClなどハロゲンに対応した「塩素炉」をはじめ、極低酸素×高温の 「カーボン炉」、クリーン＆俊敏な「メタル炉」、湿潤も含む幅広さがある 「マルチ雰囲気炉」、まず“当たり"を見る小スケールの「管状炉」を ラインアップ。 当社では、テスト機もご用意いたしております。 また、小型機以外にも量産スケールの炉も製作実績があります。 【特長】 ■塩素炉 ・対応雰囲気：Cl2/HCl/不活性(N2・Ar) ・温度：〜1800℃級(機種・材質による) ・主な用途：塩素化/塩化揮発/ハロゲン化精製/表面改質 ■メタル炉 ・対応雰囲気：真空/空気/N2・Ar/少量H2 ・温度めやす：〜1800℃前後(機種による) ・主な用途：焼結・拡散接合/酸化・還元アニール/金属・セラミックスの結晶化 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。
塩素/塩化水素で不純物を塩化物化！蒸気圧差と段階温度で優先揮発します
「小型塩素炉」は、母材を残して乾式で分離・低汚染、洗浄レスで後処理を 簡素化する製品です。 材料中の金属不純物をCl2/HClによる選択塩素化で揮発性塩化物に変換し、 温度段階と滞留時間の制御で優先的に除去する乾式プロセス。 また、金属塩化物の蒸気圧差・生成自由エネルギー差を利用するため、 母材の組成や結晶相を損なわずに高選択で分離でき、排液がほぼ出ないため 環境負荷とコストを低減できます。 【特長】 ■選択性：塩化物の蒸気圧差を利用し、ターゲット不純物のみ優先揮発 ■段階温度プロファイル：低温→中温で順次分離、母材損傷を抑制 ■乾式・低廃棄：洗浄レスで廃液ほぼゼロ、後処理が簡便 ※さらに詳しい情報については資料をダウンロードいただくか、お気軽にお問い合わせください。
ガス種にしばられない湿潤雰囲気焼成で、セラミックスの緻密化を促進。
セラミックス業界において、緻密化は製品の強度や耐久性を向上させるために不可欠です。特に、高温環境下での焼成プロセスにおいては、雰囲気制御が品質を大きく左右します。加湿制御の不安定さ、雰囲気ガスの切り替えの遅さ、結露や汚染のリスクは、緻密化のプロセスにおける大きな課題です。これらの課題は、製品の品質ばらつきや歩留まりの低下につながる可能性があります。当社のマルチ雰囲気炉は、Wetter直結の加湿制御、真空置換、ガス切替機能を搭載し、セラミックスの緻密化プロセスにおけるこれらの課題を解決します。 【活用シーン】 ・セラミックス焼結 ・高密度化 ・表面改質 【導入の効果】 ・均一な焼成環境の実現 ・高品質なセラミックス製品の製造 ・プロセスの再現性向上
