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半導体ウェハー向け洗浄ユニット『PA10-Q60AE-S』

基板直近照射で効率的に微粒子を除去。高周波メガソニックを用いた精密ウェハー洗浄ユニット。※デモ機あり

近接メガソニック洗浄ユニット「PA10-Q60AE-S」は、 1.0MHzまたは3.0MHzの高周波音波を基板へ直接照射し、 微粒子や残渣を非接触で効率よく除去できる洗浄ユニットです。 独自の液供給システムを備え、基板外周部まで均一な洗浄エリアを確保。 液体の飛散やエネルギー損失を抑え、微細構造を持つ半導体ウェハーや フォトマスク基板の精密洗浄に適しています。 本体は高純度石英製で、低発塵かつ耐薬品性に優れ、強酸・強アルカリ薬液との併用洗浄にも対応。 基板直上照射方式のため枚葉洗浄装置との相性が良く、プロセスごとに柔軟な設計が可能です。 【用途】 ・半導体ウェハーの微粒子除去 ・フォトレジスト剥離後の残渣洗浄 ・TSV・MEMS構造、成膜後、CPM後の洗浄　など ※使用感を確認できるデモユニットもご用意しています。 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。